Volfrám szilicid darabok

A WSi2 wolfram-szilicidet elektromos sokkoló anyagként használják a mikroelektronikában, poliszilícium huzalok söntésére, oxidációgátló bevonatokra és ellenálláshuzal-bevonatokra. A mikroelektronikában a wolfram-szilicidet érintkező anyagként használják, fajlagos ellenállása 60-80μΩcm. 1000°C-on keletkezik. Általában poliszilícium vonalak söntjeként használják vezetőképességének növelésére és a jel sebességének növelésére. A wolfram-szilicid réteg kémiai gőzleválasztással, például gőzleválasztással állítható elő. Nyersanyagként monoszilánt vagy diklórszilánt és volfrám-hexafluoridot használjon. A leválasztott film nem sztöchiometrikus, és hőkezelést igényel, hogy vezetőképesebb sztöchiometrikus formává alakuljon át.

A volfrám-szilicid helyettesítheti a korábbi volfrámfilmet. A volfrám-szilicidet zárórétegként is használják a szilícium és más fémek között.

A volfrám-szilicid nagyon értékes a mikroelektromechanikai rendszerekben is, amelyek közül a volfrám-szilicidet főleg vékony filmként használják mikroáramkörök gyártásához. Ebből a célból a wolfram-szilicid filmet plazmamaratással, például sziliciddel lehet maratni.

A Rich Special Materials a porlasztó célpontok gyártására specializálódott, és volfrám-szilicidet tud előállítanidarabokaz Ügyfél specifikációi szerint. További információért forduljon hozzánk.