A magnetronos porlasztásos bevonat egy új fizikai gőzbevonási eljárás, a korábbi párologtatásos bevonási módszerhez képest előnyei sok szempontból igen figyelemre méltóak. Kiforrott technológiaként a magnetronos porlasztást számos területen alkalmazták.
Magnetron porlasztási elve:
A porlasztott célpólus (katód) és az anód közé ortogonális mágneses mezőt és elektromos mezőt adnak, és a szükséges inert gázt (általában Ar gázt) a nagyvákuumkamrába töltik. Az állandó mágnes 250-350 gaus erősségű mágneses teret képez a célanyag felületén, az ortogonális elektromágneses mezőt pedig a nagyfeszültségű elektromos tér alkotja. Az elektromos tér hatására az Ar gáz pozitív ionokká és elektronokká ionizálódik, cél és bizonyos negatív nyomású, a célponttól a pólustól a mágneses tér hatására és a munkagáz ionizációs valószínűségének növekedésével nagy sűrűségű plazmát képeznek a közelében. katód, Ar-ion lorentz-erő hatására, gyorsul a célfelületre való repüléshez, nagy sebességgel bombázza a célfelületet, A célponton lévő porlasztott atomok a lendületátalakítás elvét követik és repülnek távol a célfelülettől nagy kinetikus energiával a szubsztrát lerakó filmhez.
A mágneses porlasztást általában két típusra osztják: egyenáramú porlasztásra és RF-porlasztásra. Az egyenáramú porlasztóberendezés elve egyszerű, és fémporlasztáskor gyors a sebesség. Kiterjedtebb az RF porlasztás alkalmazása, a vezető anyagok porlasztása mellett, de nem vezető anyagok porlasztása is, de oxidok, nitridek és karbidok és egyéb összetett anyagok reaktív porlasztása is. Ha az RF frekvenciája növekszik, az mikrohullámú plazmaporlasztássá válik. Jelenleg az elektronciklotron rezonancia (ECR) típusú mikrohullámú plazmaporlasztást használják általánosan.
Magnetron porlasztó bevonat célanyaga:
Fémporlasztó célanyag, bevonóötvözet porlasztó bevonóanyag, kerámia porlasztó bevonóanyag, borid kerámia porlasztó célanyagok, keményfém kerámia porlasztó célanyag, fluorid kerámia porlasztó célanyag, nitrid kerámia porlasztó célanyag, nitrid kerámia porlasztó célanyag, oxid kerámia porlasztó célanyag, oxid kerámia porlasztó célanyag szilicid kerámia porlasztó célanyag, szulfid kerámia porlasztó célanyag, Telluride kerámia porlasztó céltárgy, egyéb kerámia céltárgy, krómmal adalékolt szilícium-oxid kerámia céltárgy (CR-SiO), indium-foszfid célpont (InP), ólom-arzenid célpont (PbAs), indium-arzenid célpont (InAs).
Feladás időpontja: 2022-03-03