A bevont céltárgy vékony filmje speciális anyagforma. Az adott vastagságirányban a skála nagyon kicsi, ami mikroszkopikusan mérhető mennyiség. Ezenkívül a filmvastagság megjelenése és felülete miatt az anyag folytonossága megszűnik, ami miatt a filmadatok és a céladatok eltérő közös tulajdonságokkal rendelkeznek. És a cél elsősorban a magnetronos porlasztó bevonat használata, a Beijing Richmat szerkesztője elvezet bennünket, hogy megértsük. a porlasztásos bevonat elve és készségei.
一, A porlasztó bevonat elve
Sputtering bevonat készség, hogy használja az ionhéj cél megjelenése, a cél atomok eltalálják a jelenség az úgynevezett porlasztás. A hordozó felületén lerakódott atomokat porlasztó bevonatnak nevezzük. A gázionizációt általában gázkisüléssel hozzuk létre, és a pozitív ionok elektromos tér hatására nagy sebességgel bombázzák a katód célpontját, kiütve a katód atomjait vagy molekuláit. katódcélpont, és a szubsztrát felületére repülve, hogy filmbe kerüljön. Egyszerűen szólva, a porlasztó bevonat alacsony nyomású inert gázt használ izzó kisülés ionok generálására.
Általában a porlasztó filmbevonó berendezés két elektródával van felszerelve egy vákuumkisülési kamrában, és a katódcél a bevonat adatokból áll. A vákuumkamra 0,1-10 Pa nyomású argongázzal van megtöltve. Izzító kisülés lép fel a katódon 1-3 kV egyenáramú negatív nagyfeszültség vagy 13,56 MHz rádiófrekvenciás feszültség hatására. Az argonionok bombázzák a célfelületet, és a porlasztott célatomok felhalmozódását okozzák a hordozón.
二、Sputtering coating képességi jellemzők
1、Gyors halmozási sebesség
A nagy sebességű magnetron porlasztó elektróda és a hagyományos kétfokozatú porlasztó elektróda között az a különbség, hogy a mágnes a célpont alatt helyezkedik el, így a zárt egyenetlen mágneses tér a céltárgy felületén lép fel.Az elektronokra ható lorentz erő a középpont felé irányul. a heterogén mágneses tér. A fókuszáló hatás miatt az elektronok kevésbé szöknek ki. A heterogén mágneses tér körbejárja a célfelületet, és a heterogén mágneses térben befogott másodlagos elektronok ismételten ütköznek a gázmolekulákkal, ami javítja a gázmolekulák nagy konverziós sebességét. Ezért a nagy sebességű magnetronporlasztás kis energiát fogyaszt, de nagy bevonati hatékonyságot érhet el, ideális kisülési jellemzőkkel.
2. Az aljzat hőmérséklete alacsony
Nagy sebességű magnetronporlasztás, más néven alacsony hőmérsékletű porlasztás. Ennek az az oka, hogy a készülék a kisüléseket olyan elektromágneses terekben alkalmazza, amelyek egyenesen egymáshoz kapcsolódnak. A másodlagos elektronok, amelyek a céltárgy külső oldalán, egymásban fordulnak elő. Egyenes elektromágneses tér hatására a célpont felszínéhez közel kötődik, és körkörös gördülési vonalban mozog a kifutópálya mentén, ismételten nekiütközve a gázmolekuláknak, hogy ionizálja a gázmolekulákat. Együtt maguk az elektronok fokozatosan elveszítik energiájukat. ismétlődő ütések, amíg az energiájuk csaknem teljesen elvész, mielőtt kiszabadulhatna a céltárgy felszínéről a szubsztrát közelében. Mivel az elektronok energiája nagyon alacsony, a célpont hőmérséklete nem emelkedik túl magasra. Ez elég ahhoz, hogy ellensúlyozza a hordozóhőmérséklet-emelkedést, amelyet egy közönséges diódalövés nagy energiájú elektronbombázása okoz, és ezzel befejeződik a kriogenizálás.
3 、 A membránszerkezetek széles választéka
A vákuum-bepárlással és injektált leválasztással nyert vékony filmek szerkezete egészen más, mint az ömlesztett szilárd anyagok hígításával. Az általánosan létező szilárd anyagokkal szemben, amelyeket három dimenzióban lényegében azonos szerkezetnek minősítenek, a gázfázisban lerakódott filmeket heterogén struktúrák közé sorolják. A vékony filmek oszlop alakúak, pásztázó elektronmikroszkóppal vizsgálhatók. A film oszlopos növekedését a hordozó eredeti konvex felülete és néhány árnyék okozza a hordozó kiemelkedő részein. Az oszlop alakja és mérete azonban meglehetősen eltérő a szubsztrát hőmérséklete, a halmozott atomok felületi diszperziója, a szennyező atomok eltemetése és a beeső atomok szubsztrát felületéhez viszonyított beesési szöge miatt. A túlzott hőmérsékleti tartományban a vékony film szálas szerkezetű, nagy sűrűségű, finom oszlopos kristályokból áll, ami a porlasztófilm egyedülálló szerkezete.
A porlasztási nyomás és a fólia halmozási sebessége is befolyásolja a fólia szerkezetét. Mivel a gázmolekulák olyan hatást fejtenek ki, hogy elnyomják az atomok diszperzióját a hordozó felületén, ezért a nagy porlasztási nyomás hatása alkalmas a hordozó hőmérséklet-csökkenésére a modellben. Ezért nagy porlasztási nyomáson finom szemcséket tartalmazó porózus filmek nyerhetők. Ez a kis szemcseméretű fólia alkalmas kenésre, kopásállóságra, felületkeményítésre és egyéb mechanikai alkalmazásokra.
4. A kompozíciót egyenletesen rendezze el
Olyan vegyületek, keverékek, ötvözetek stb., amelyek vákuumpárologtatással megfelelően nehezen vonhatók be, mert az összetevők gőznyomása eltérő, vagy mert hevítéskor eltérőek. A porlasztásos bevonási módszer az, hogy az atomok célfelületi rétegét rétegenként alakítják ki. a szubsztrátumhoz, ebben az értelemben tökéletesebb filmkészítési készség. Az ipari bevonatgyártásban mindenféle anyag felhasználható porlasztással.
Feladás időpontja: 2022-04-29