Mindannyian tudjuk, hogy a porlasztás az egyik fő technológia a fóliaanyagok előkészítésében. Az ionforrás által termelt ionokat használja fel a vákuumban történő aggregáció felgyorsítására, így nagy sebességű ionnyalábot képez, bombázza a szilárd felületet, és az ionok kinetikus energiát cserélnek a szilárd felületen lévő atomokkal, így a szilárd anyagon lévő atomok felület hagyja el a szilárd anyagot és rakja le az alapfelületre. A bombázott szilárd anyag a film porlasztással történő leválasztásának alapanyaga, amelyet porlasztó célpontnak neveznek.
Különféle típusú porlasztott filmanyagokat széles körben használnak félvezető integrált áramkörökben, adathordozókban, síkkijelzőkben, szerszámok és szerszámok felületi bevonataiban és így tovább.
A porlasztó célpontokat elsősorban az elektronikai és információs iparban használják, például integrált áramkörökben, információtárolókban, folyadékkristályos kijelzőkben, lézeres memóriákban, elektronikus vezérlőberendezésekben stb. Üvegbevonat területén is használható; Használható kopásálló anyagokban, magas hőmérsékletű korrózióállóságban, csúcsminőségű dekorációs termékekben és más iparágakban is.
Sokféle porlasztó célpont létezik, és különböző módszerek léteznek a célok osztályozására:
Összetétele szerint fémtárgyra, ötvözetcélra és kerámia vegyületcélra osztható.
Formája szerint hosszú céltáblára, négyzet alakú és kerek céltáblára osztható.
Felosztható mikroelektronikus célpontra, mágneses rögzítési célpontra, optikai lemezcélra, nemesfém célpontra, filmellenállási célpontra, vezetőképes filmcélra, felületmódosítási célpontra, maszkcélra, dekoratív rétegcélra, elektródacélra és egyéb célokra az alkalmazási terület szerint.
Különböző alkalmazások szerint felosztható félvezetőhöz kapcsolódó kerámia célokra, rögzítőközeg kerámia célokra, kijelző kerámia célokra, szupravezető kerámia célokra és óriás mágneses ellenállású kerámia célokra.
Feladás időpontja: 2022. július 29