Kòm nou tout konnen, metòd yo souvan itilize nan kouch vakyòm yo se transpirasyon vakyòm ak iyon sputtering. Ki diferans ki genyen ant kouch transpirasyon ak kouch sputtering Anpilmoun gen kesyon sa yo. Ann pataje avèk ou diferans ki genyen ant kouch transpirasyon ak kouch sputtering
Fim transpirasyon vakyòm se chofe done yo dwe transpirasyon nan yon tanperati fiks pa vle di nan chofaj rezistans oswa gwo bout bwa elèktron ak bonbadman lazè nan yon anviwònman ki gen yon degre vakyòm ki pa mwens pase 10-2Pa, se konsa ke enèji nan Vibration tèmik nan molekil oswa atòm nan done yo depase enèji obligatwa nan sifas la, se konsa ke anpil molekil oswa atòm transpirasyon oswa ogmante, epi dirèkteman depoze yo sou substra a yo fòme yon fim. Ion sputtering kouch itilize mouvman an remontans segondè nan iyon pozitif ki te pwodwi pa egzeyat gaz anba efè a nan jaden elektrik bonbade sib la kòm katod la, se konsa ke atòm yo oswa molekil nan sib la chape ak depo sou sifas la nan materyo an plake yo fòme. fim ki nesesè yo.
Metòd ki pi souvan itilize nan kouch transpirasyon vakyòm se metòd chofaj rezistans. Avantaj li yo se estrikti a senp nan sous chofaj, pri ki ba ak operasyon pratik. Dezavantaj li yo se ke li pa apwopriye pou metal refractory ak medya ki reziste tanperati ki wo. Chofaj elektwon gwo bout bwa ak chofaj lazè ka simonte dezavantaj yo nan chofaj rezistans. Nan chofaj elèktron gwo bout bwa, yo itilize gwo bout bwa a elèktron konsantre dirèkteman pou chofe done yo koki, ak enèji sinetik nan gwo bout bwa elèktron vin enèji chalè pou fè transpirasyon done yo. Chofaj lazè sèvi ak lazè gwo pouvwa kòm sous chofaj la, men akòz pri a wo nan gwo pouvwa lazè, li ka sèlman itilize nan yon ti kantite laboratwa rechèch.
Konpetans Sputtering diferan de konpetans transpirasyon vakyòm. Sputtering refere a fenomèn ki chaje patikil bonbade tounen nan sifas la (sib) nan kò a, se konsa ke atòm solid oswa molekil yo emèt soti nan sifas la. Pifò nan patikil ki emèt yo se atomik, ki souvan rele atòm sputtered. Patikil Sputtered yo itilize pou sib bonbadman yo ka elektwon, iyon oswa patikil net. Paske iyon yo fasil pou jwenn enèji sinetik ki nesesè anba jaden elektrik, iyon yo sitou chwazi kòm patikil bonbadman.
Pwosesis sputtering la baze sou egzeyat lumineux, se sa ki, iyon sputtering yo soti nan egzeyat gaz. Diferan ladrès sputtering gen diferan metòd egzeyat lumineux. DC dyòd sputtering itilize DC egzeyat lumineux; Triode sputtering se yon egzeyat lumineux ki sipòte pa katod cho; RF sputtering sèvi ak egzeyat lumineux RF; Magnetron sputtering se yon egzeyat lumineux kontwole pa yon chan mayetik annulaire.
Konpare ak kouch transpirasyon vakyòm, kouch sputtering gen anpil avantaj. Si nenpòt sibstans ka sputtered, espesyalman eleman ak konpoze ki gen gwo pwen k ap fonn ak presyon vapè ki ba; Adhesion ki genyen ant fim sputtered ak substra se yon bon bagay; Segondè dansite fim; Epesè fim nan ka kontwole ak repetibilite a se yon bon bagay. Dezavantaj la se ke ekipman an se konplèks epi li mande pou aparèy wo-vòltaj.
Anplis de sa, konbinezon an nan metòd transpirasyon ak metòd sputtering se ion plating. Avantaj ki genyen nan metòd sa a se adezyon fò ant fim nan ak substra a, gwo pousantaj depo ak gwo dansite nan fim nan.
Lè poste: Me-09-2022