NiV स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता पतली फिल्म Pvd कोटिंग कस्टम मेड
निकल वैनेडियम
निकेल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य विवरण
सोने को अक्सर एकीकृत सर्किट परत के जमाव में लगाया जाता है, लेकिन अगर सोने को सिलिकॉन के साथ मिलाया जाता है तो अक्सर AuSi कम पिघलने वाला यौगिक बनता है, जो विभिन्न परतों के बीच ढीलेपन का कारण बनता है। चिपकने वाली परत के लिए शुद्ध निकल एक अच्छा विकल्प है, जबकि प्रसार को रोकने के लिए निकल और सोने की परत के बीच एक बैरियर परत की भी आवश्यकता होती है। वैनेडियम उच्च गलनांक और उच्च एम्पीयर घनत्व को बनाए रखने की क्षमता के साथ इस आवश्यकता को पूरी तरह से पूरा कर सकता है। इसलिए निकेल, वैनेडियम और सोना तीन सामग्रियां हैं जिनका उपयोग आमतौर पर एकीकृत सर्किट उद्योग में किया जाता है। निकेल वैनेडियम स्पटरिंग टारगेट का निर्माण पिघले हुए निकेल में वैनेडियम मिलाकर किया जाता है। कम लौहचुम्बकत्व के साथ, यह इलेक्ट्रॉनिक उत्पादों के मैग्नेट्रोन स्पटरिंग के लिए एक अच्छा विकल्प है, जो एक समय में निकल परत और वैनेडियम परत का उत्पादन कर सकता है।
Ni-7V wt% अशुद्धता सामग्री
पवित्रता | मुख्य घटक(wt%) | अशुद्धता रसायन(≤पीपीएम) | कुल मिलाकर अशुद्धता(≤पीपीएम) | ||||||
V | Fe | Al | Si | C | N | O | S | ||
99.99 | 7±0.5 | 20 | 30 | 20 | 100 | 30 | 100 | 20 | 100 |
99.95 | 7±0.5 | 200 | 200 | 200 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
99.9 | 7±0.5 | 300 | 300 | 300 | 100 | 100 | 200 | 50 | 500 |
निकल वैनेडियम स्पटरिंग लक्ष्य पैकेजिंग
कुशल पहचान और गुणवत्ता नियंत्रण सुनिश्चित करने के लिए हमारे निकेल वैनेडियम स्पटर लक्ष्य को स्पष्ट रूप से टैग और बाहरी रूप से लेबल किया गया है। भंडारण या परिवहन के दौरान होने वाली किसी भी क्षति से बचने के लिए बहुत सावधानी बरती जाती है।
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