स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री के मुख्य गुण

हमें अब लक्ष्य से बहुत परिचित होना चाहिए, अब लक्ष्य बाजार भी बढ़ रहा है, आरएसएम के संपादक द्वारा साझा किए गए स्पटरिंग लक्ष्य का मुख्य प्रदर्शन निम्नलिखित है

　　पवित्रता

लक्ष्य सामग्री की शुद्धता मुख्य प्रदर्शन सूचकांकों में से एक है, क्योंकि लक्ष्य सामग्री की शुद्धता पतली फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव डालती है। हालाँकि, व्यावहारिक अनुप्रयोग में, लक्ष्य सामग्रियों की शुद्धता की आवश्यकताएँ समान नहीं हैं। उदाहरण के लिए, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग के तेजी से विकास के साथ, सिलिकॉन चिप का आकार 6″, 8″ से 12″ तक विकसित किया गया है, और वायरिंग की चौड़ाई 0.5um से घटाकर 0.25um, 0.18um या यहां तक ​​कि 0.13um कर दी गई है। पहले, 99.995% लक्ष्य सामग्री की शुद्धता 0.35umIC की प्रक्रिया आवश्यकताओं को पूरा कर सकती है। 0.18um लाइनों की तैयारी के लिए लक्ष्य सामग्री की शुद्धता 99.999% या यहां तक ​​कि 99.9999% है।

　　अशुद्धता सामग्री

लक्ष्य ठोस में अशुद्धियाँ और छिद्रों में ऑक्सीजन और जल वाष्प फिल्म जमाव के मुख्य प्रदूषण स्रोत हैं। विभिन्न उद्देश्यों के लिए लक्षित सामग्रियों की अलग-अलग अशुद्धता सामग्री के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं होती हैं। उदाहरण के लिए, सेमीकंडक्टर उद्योग में उपयोग किए जाने वाले शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातु लक्ष्यों में क्षार धातुओं और रेडियोधर्मी तत्वों की सामग्री के लिए विशेष आवश्यकताएं होती हैं।

　　घनत्व

लक्ष्य ठोस में सरंध्रता को कम करने और स्पटरिंग फिल्म के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य के उच्च घनत्व की आमतौर पर आवश्यकता होती है। लक्ष्य का घनत्व न केवल स्पटरिंग दर बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करता है। लक्ष्य घनत्व जितना अधिक होगा, फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा। इसके अलावा, लक्ष्य का घनत्व और ताकत बढ़ने से लक्ष्य स्पटरिंग प्रक्रिया में थर्मल तनाव को बेहतर ढंग से सहन कर पाता है। घनत्व भी लक्ष्य के प्रमुख प्रदर्शन सूचकांकों में से एक है।

　　अनाज का आकार और अनाज का आकार वितरण

लक्ष्य आमतौर पर पॉलीक्रिस्टलाइन होता है, जिसके दाने का आकार माइक्रोमीटर से मिलीमीटर तक होता है। एक ही लक्ष्य के लिए, छोटे दानों वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर बड़े दानों वाले लक्ष्य की तुलना में तेज़ होती है। छोटे दाने के आकार के अंतर (समान वितरण) के साथ स्पटरिंग लक्ष्य द्वारा जमा की गई फिल्मों की मोटाई का वितरण अधिक समान है।