उच्च शुद्धता ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य

रिच विशेष सामग्री कं, लिमिटेड। सेमीकंडक्टर, रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी) और भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) डिस्प्ले और ऑप्टिकल अनुप्रयोगों में उपयोग के लिए उच्चतम संभव घनत्व और सबसे छोटे संभव औसत अनाज आकार के साथ उच्च शुद्धता वाले ज़िरकोनियम स्पटरिंग लक्ष्य की आपूर्ति करें। पतली फिल्म के लिए हमारे मानक स्पटरिंग लक्ष्य मोनोब्लॉक उपलब्ध हैं या छेद ड्रिल स्थानों और थ्रेडिंग, बेवेलिंग, ग्रूव्स और बैकिंग के साथ 820 मिमी तक के प्लानर लक्ष्य आयामों और कॉन्फ़िगरेशन के साथ जुड़े हुए हैं जो पुराने स्पटरिंग उपकरणों के साथ-साथ नवीनतम प्रक्रिया उपकरण दोनों के साथ काम करने के लिए डिज़ाइन किए गए हैं। जैसे कि सौर ऊर्जा या ईंधन सेल और फ्लिप-चिप अनुप्रयोगों के लिए बड़े क्षेत्र की कोटिंग। अनुसंधान आकार के लक्ष्यों के साथ-साथ कस्टम आकार और मिश्रधातु का भी उत्पादन किया जाता है। एक्स-रे फ्लोरेसेंस (एक्सआरएफ) सहित सर्वोत्तम प्रदर्शित तकनीकों का उपयोग करके सभी लक्ष्यों का विश्लेषण किया जाता है।