मोलिब्डेनम एक धातु तत्व है, जिसका उपयोग मुख्य रूप से लौह और इस्पात उद्योग में किया जाता है, जिनमें से अधिकांश का उपयोग औद्योगिक मोलिब्डेनम ऑक्साइड को दबाने के बाद सीधे स्टील बनाने या कच्चा लोहा बनाने में किया जाता है, और इसका एक छोटा सा हिस्सा फेरो मोलिब्डेनम में पिघलाया जाता है और फिर स्टील में उपयोग किया जाता है। बनाना. यह मिश्र धातु की ताकत, कठोरता, वेल्डेबिलिटी और कठोरता को बढ़ा सकता है, लेकिन इसकी उच्च तापमान शक्ति और संक्षारण प्रतिरोध को भी बढ़ा सकता है। तो मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य किन क्षेत्रों में उपयोग किए जाते हैं? आरएसएम के संपादक का शेयर निम्नलिखित है।
मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री का अनुप्रयोग
इलेक्ट्रॉनिक उद्योग में, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग मुख्य रूप से फ्लैट डिस्प्ले, पतली फिल्म सौर सेल इलेक्ट्रोड और वायरिंग सामग्री और अर्धचालक बाधा सामग्री में किया जाता है। ये मोलिब्डेनम के उच्च गलनांक, उच्च विद्युत चालकता, कम विशिष्ट प्रतिबाधा, बेहतर संक्षारण प्रतिरोध और अच्छे पर्यावरणीय प्रदर्शन पर आधारित हैं।
मोलिब्डेनम फ्लैट डिस्प्ले के स्पटरिंग लक्ष्य के लिए पसंदीदा सामग्रियों में से एक है क्योंकि इसमें क्रोमियम की तुलना में केवल 1/2 प्रतिबाधा और फिल्म तनाव है और कोई पर्यावरणीय प्रदूषण नहीं है। इसके अलावा, एलसीडी घटकों में मोलिब्डेनम का उपयोग चमक, कंट्रास्ट, रंग और जीवन में एलसीडी के प्रदर्शन में काफी सुधार कर सकता है।
फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग में, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य के मुख्य बाजार अनुप्रयोगों में से एक टीएफटी-एलसीडी है। बाजार अनुसंधान से संकेत मिलता है कि अगले कुछ वर्ष एलसीडी विकास के चरम पर होंगे, जिसमें लगभग 30% की वार्षिक वृद्धि दर होगी। एलसीडी के विकास के साथ, लगभग 20% की वार्षिक वृद्धि दर के साथ, एलसीडी स्पटरिंग लक्ष्य की खपत भी तेजी से बढ़ रही है। 2006 में, मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री की वैश्विक मांग लगभग 700T थी, और 2007 में, यह लगभग 900T थी।
फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग के अलावा, नई ऊर्जा उद्योग के विकास के साथ, पतली फिल्म सौर फोटोवोल्टिक कोशिकाओं में मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य का अनुप्रयोग बढ़ रहा है। CIGS (Cu इंडियम गैलियम सेलेनियम) पतली फिल्म बैटरी इलेक्ट्रोड परत मोलिब्डेनम स्पटरिंग लक्ष्य पर स्पटरिंग द्वारा बनाई जाती है।
पोस्ट करने का समय: जुलाई-16-2022