અમારી વેબસાઇટ્સ પર આપનું સ્વાગત છે!

ટંગસ્ટન સિલિસાઇડના ટુકડા

ટંગસ્ટન સિલિસાઇડના ટુકડા

ટૂંકું વર્ણન:

શ્રેણી Cયુગમાઇક સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય
કેમિકલ ફોર્મ્યુલા WSi2
રચના ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ પીices
શુદ્ધતા 99.9%,99.95%,99.99%
આકાર ગોળીઓ, ફ્લેક્સ, ગ્રાન્યુલ્સ, શીટ્સ

ઉત્પાદન વિગતો

ઉત્પાદન ટૅગ્સ

ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ WSi2 નો ઉપયોગ માઈક્રોઈલેક્ટ્રોનિક્સમાં ઈલેક્ટ્રિક શોક મટિરિયલ તરીકે થાય છે, પોલિસિલિકોન વાયર પર શન્ટિંગ, એન્ટી-ઓક્સિડેશન કોટિંગ અને રેઝિસ્ટન્સ વાયર કોટિંગ. ટંગસ્ટન સિલિસાઇડનો ઉપયોગ માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક્સમાં સંપર્ક સામગ્રી તરીકે થાય છે, જેની પ્રતિકારકતા 60-80μΩcm છે. તે 1000 ° સે પર રચાય છે. તેનો ઉપયોગ સામાન્ય રીતે તેની વાહકતા વધારવા અને સિગ્નલની ઝડપ વધારવા માટે પોલિસિલિકોન રેખાઓ માટે શંટ તરીકે થાય છે. ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ સ્તર રાસાયણિક વરાળના સંગ્રહ દ્વારા તૈયાર કરી શકાય છે, જેમ કે વરાળ જમાવવું. કાચા માલના ગેસ તરીકે મોનોસિલેન અથવા ડિક્લોરોસિલેન અને ટંગસ્ટન હેક્સાફ્લોરાઇડનો ઉપયોગ કરો. જમા થયેલ ફિલ્મ નોન-સ્ટોઇકિયોમેટ્રિક છે અને તેને વધુ વાહક સ્ટોઇકિયોમેટ્રિક સ્વરૂપમાં રૂપાંતરિત કરવા માટે એનેલીંગની જરૂર છે.

ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ અગાઉની ટંગસ્ટન ફિલ્મને બદલી શકે છે. ટંગસ્ટન સિલિસાઇડનો ઉપયોગ સિલિકોન અને અન્ય ધાતુઓ વચ્ચેના અવરોધ સ્તર તરીકે પણ થાય છે.

ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ માઇક્રોઇલેક્ટ્રોમિકેનિકલ સિસ્ટમ્સમાં પણ ખૂબ મૂલ્યવાન છે, જેમાંથી ટંગસ્ટન સિલિસાઇડનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે માઇક્રોસિર્કિટ બનાવવા માટે પાતળા ફિલ્મ તરીકે થાય છે. આ હેતુ માટે, ટંગસ્ટન સિલિસાઇડ ફિલ્મને પ્લાઝ્મા-એચ્ડ કરી શકાય છે, ઉદાહરણ તરીકે, સિલિસાઇડ.

આઇટમ રાસાયણિક રચના
તત્વ W C P Fe S Si
સામગ્રી(wt%) 76.22 0.01 0.001 0.12 0.004 સંતુલન

રિચ સ્પેશિયલ મટિરિયલ્સ સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટના ઉત્પાદનમાં નિષ્ણાત છે અને ટંગસ્ટન સિલિસાઇડનું ઉત્પાદન કરી શકે છેટુકડાઓગ્રાહકોના સ્પષ્ટીકરણો અનુસાર. વધુ માહિતી માટે, કૃપા કરીને અમારો સંપર્ક કરો.


  • ગત:
  • આગળ: