વેક્યૂમ કોટિંગમાં સ્પટરિંગ ટાર્ગેટની ભૂમિકા શું છે

સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલની પસંદગીમાં વેક્યૂમ પ્લેટિંગ એ લોકો માટે એક મુદ્દો છે, હાલમાં, સ્પુટરિંગ કોટિંગ, ખાસ કરીને મેગ્નેટ્રોન સ્પટરિંગ કોટિંગ કૌશલ્યનો વિકાસ, કોઈપણ માહિતી માટે કહી શકાય કે પાતળી ફિલ્મોની સામગ્રીની તૈયારીને લક્ષ્ય બનાવવા માટે સક્ષમ છે. આયન બોમ્બાર્ડમેન્ટ દ્વારા, કારણ કે કોટિંગની પ્રક્રિયામાં લક્ષ્ય સામગ્રીને સબસ્ટ્રેટના પ્રકાર પર ફેંકવાથી, સ્પુટરિંગની ગુણવત્તા પર મહત્વપૂર્ણ અસર પડે છે. ફિલ્મ,તેથી, લક્ષ્ય સામગ્રીની જરૂરિયાતો વધુ કડક છે. અહીં આપણે બેઇજિંગ રિલેક્સેશનના એડિટર સાથે મળીને વેક્યૂમ કોટિંગમાં સ્પટરિંગ ટાર્ગેટની ભૂમિકા વિશે શીખીશું.

一、લક્ષિત સામગ્રીનું પસંદગીનો સિદ્ધાંત અને વર્ગીકરણ

લક્ષ્ય સામગ્રીની પસંદગીમાં, ફિલ્મનો ઉપયોગ કરવા ઉપરાંત, નીચેની સમસ્યાઓ પણ ધ્યાનમાં લેવી જોઈએ:

સમસ્યા 1. પટલના ઉપયોગ અને કામગીરીની જરૂરિયાતો અનુસાર, લક્ષ્ય સામગ્રી માટે શુદ્ધતા, સામયિક સામગ્રી, ઘટક એકરૂપતા, મશીનિંગ ચોકસાઈ અને તેથી વધુની તકનીકી આવશ્યકતાઓને પૂર્ણ કરવી જરૂરી છે.

સમસ્યા 2. ફિલ્મની રચના પછી લક્ષ્ય સામગ્રીમાં સારી યાંત્રિક શક્તિ અને રાસાયણિક સ્થિરતા હોવી જોઈએ;

સમસ્યા 3. ફિલ્મ સામગ્રી માટે પ્રતિક્રિયાત્મક સ્પટરિંગ ફિલ્મ તરીકે પ્રતિક્રિયા ગેસ સાથે સરળતાથી સંયોજન ફિલ્મ પેદા કરવી જરૂરી છે;

સમસ્યા 4. લક્ષ્ય અને મેટ્રિક્સને મજબૂત બનાવવા માટે સેટ કરવું જરૂરી છે, અન્યથા, મેટ્રિક્સ સાથે સારી સંલગ્નતા ધરાવતી ફિલ્મ સામગ્રી અપનાવવી જોઈએ, પ્રથમ તળિયેની ફિલ્મના સ્તરને સ્પટર કરો અને પછી જરૂરી ફિલ્મ સ્તર તૈયાર કરો;

પ્રશ્ન 5. ફિલ્મની કામગીરીની જરૂરિયાતોને પહોંચી વળવાના આધાર પર, લક્ષ્યના થર્મલ વિસ્તરણ ગુણાંક અને મેટ્રિક્સ વચ્ચેનો તફાવત જેટલો ઓછો હશે, તેટલો વધુ સારો, જેથી સ્પુટરિંગ ફિલ્મના થર્મલ સ્ટ્રેસના પ્રભાવને ઓછો કરી શકાય;

કેટલાક સામાન્ય રીતે ઉપયોગમાં લેવાતા લક્ષ્યોની તૈયારી

(1) કરોડનું લક્ષ્ય

સ્પુટરિંગ ફિલ્મ મટિરિયલ તરીકે ક્રોમિયમ માત્ર બેઝ મટિરિયલ સાથે જોડવાનું સરળ નથી, જેમાં ઉચ્ચ સંલગ્નતા હોય છે, અને ક્રોમિયમ અને ઓક્સાઇડ CrQ3 ફિલ્મ, તેના યાંત્રિક ગુણધર્મો, એસિડ પ્રતિકાર અને થર્મલ સ્થિરતા વધુ સારી હોય છે.

Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. મુખ્યત્વે તેમાં રોકાયેલ છે: ટાઇટેનિયમ ટાર્ગેટ ઝિર્કોનિયમ ટાર્ગેટ, એલ્યુમિનિયમ ટાર્ગેટ, નિકલ ટાર્ગેટ, ક્રોમિયમ ટાર્ગેટ, ટંગસ્ટન ટાર્ગેટ, મોલીબડેનમ ટાર્ગેટ, કોપર ટાર્ગેટ, સિલિકોન ટાર્ગેટ, નિઓબિયમ ટાર્ગેટ, ટેન્ટેલમ ટાર્ગેટ, ટાઇટેનિયમ-સિલિકોન એલોય લક્ષ્ય, ટાઇટેનિયમ-નિઓબિયમ એલોય લક્ષ્ય, ટાઇટેનિયમ-ટંગસ્ટન એલોય લક્ષ્ય, ટાઇટેનિયમ-ઝિર્કોનિયમ એલોય ટાર્ગેટ, નિકલ-ક્રોમિયમ એલોય લક્ષ્ય, સિલિકા-એલ્યુમિનિયમ એલોય લક્ષ્ય, નિકલ-વેનેડિયમ એલોય લક્ષ્ય, ક્રોમિયમ-એલ્યુમિનિયમ-સિલિકોન ટર્નરી એલોય લક્ષ્ય，Ti al si ટર્નરી એલોય લક્ષ્ય સામગ્રી, સુશોભન/સખત સપાટી અને કાર્યાત્મકમાં વ્યાપકપણે ઉપયોગમાં લેવાય છે કોટિંગ, આર્કિટેક્ચરલ ગ્લાસ, ફ્લેટ ડિસ્પ્લે/ઓપ્ટિકલ ફોટોઈલેક્ટ્રીક, ઓપ્ટિકલ સ્ટોરેજ, ઇલેક્ટ્રોનિક્સ, પ્રિન્ટિંગ અને અન્ય વ્યવસાયો.