સ્પુટરિંગ લક્ષ્યનો એપ્લિકેશન અને સિદ્ધાંત

સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટ ટેક્નોલૉજીના ઉપયોગ અને સિદ્ધાંત વિશે, કેટલાક ગ્રાહકોએ RSM નો સંપર્ક કર્યો છે, હવે આ સમસ્યા વિશે વધુ ચિંતિત છે, તકનીકી નિષ્ણાતો અમુક ચોક્કસ સંબંધિત જ્ઞાન શેર કરે છે.

　　સ્પુટરિંગ લક્ષ્ય એપ્લિકેશન:

ચાર્જિંગ કણો (જેમ કે આર્ગોન આયન) નક્કર સપાટી પર બોમ્બ ધડાકા કરે છે, જેના કારણે સપાટીના કણો, જેમ કે અણુઓ, પરમાણુઓ અથવા બંડલ "સ્પટરિંગ" તરીકે ઓળખાતી પદાર્થની ઘટનાની સપાટીથી છટકી જાય છે. મેગ્નેટ્રોન સ્પુટરિંગ કોટિંગમાં, આર્ગોન આયનાઇઝેશન દ્વારા પેદા થતા સકારાત્મક આયનોનો ઉપયોગ સામાન્ય રીતે ઘન (લક્ષ્ય) પર બોમ્બમારો કરવા માટે થાય છે, અને સ્પુટર્ડ ન્યુટ્રલ અણુઓ ફિલ્મ સ્તર બનાવવા માટે સબસ્ટ્રેટ (વર્કપીસ) પર જમા થાય છે. મેગ્નેટ્રોન સ્પટરિંગ કોટિંગમાં બે લાક્ષણિકતાઓ છે: "નીચું તાપમાન" અને "ઝડપી".

　　મેગ્નેટ્રોન સ્પુટરિંગ સિદ્ધાંત:

સ્પુટર્ડ લક્ષ્ય ધ્રુવ (કેથોડ) અને એનોડ વચ્ચે ઓર્થોગોનલ ચુંબકીય ક્ષેત્ર અને વિદ્યુત ક્ષેત્ર ઉમેરવામાં આવે છે, અને ઉચ્ચ શૂન્યાવકાશ ચેમ્બરમાં જરૂરી નિષ્ક્રિય ગેસ (સામાન્ય રીતે એઆર ગેસ) ભરવામાં આવે છે. કાયમી ચુંબક લક્ષ્ય સામગ્રીની સપાટી પર 250-350 ગૌસ ચુંબકીય ક્ષેત્ર બનાવે છે, અને ઉચ્ચ વોલ્ટેજ ઇલેક્ટ્રિક ક્ષેત્ર સાથે ઓર્થોગોનલ ઇલેક્ટ્રોમેગ્નેટિક ક્ષેત્ર બનાવે છે.

વિદ્યુત ક્ષેત્રની ક્રિયા હેઠળ, Ar વાયુનું ધન આયનો અને ઇલેક્ટ્રોનમાં આયનીકરણ થાય છે, અને લક્ષ્ય પર ચોક્કસ નકારાત્મક ઉચ્ચ દબાણ હોય છે, તેથી લક્ષ્ય ધ્રુવમાંથી ઉત્સર્જિત ઇલેક્ટ્રોન ચુંબકીય ક્ષેત્ર અને કાર્યની આયનીકરણ સંભાવનાથી પ્રભાવિત થાય છે. ગેસ વધે છે. કેથોડની નજીક એક ઉચ્ચ-ઘનતા પ્લાઝ્મા રચાય છે, અને એઆર આયનો લોરેન્ટ્ઝ બળની ક્રિયા હેઠળ લક્ષ્ય સપાટી પર વેગ આપે છે અને લક્ષ્ય સપાટી પર વધુ ઝડપે બોમ્બમારો કરે છે, જેથી લક્ષ્ય સપાટી પરના સ્પુટર્ડ અણુઓ લક્ષ્ય સપાટીથી છટકી જાય છે. ગતિ ઉર્જા અને મોમેન્ટમ કન્વર્ઝનના સિદ્ધાંત અનુસાર ફિલ્મ બનાવવા માટે સબસ્ટ્રેટ પર ઉડાન ભરી.

મેગ્નેટ્રોન સ્પટરિંગને સામાન્ય રીતે બે પ્રકારમાં વહેંચવામાં આવે છે: ડીસી સ્પુટરિંગ અને આરએફ સ્પુટરિંગ. ડીસી સ્પટરિંગ ઇક્વિપમેન્ટનો સિદ્ધાંત સરળ છે, અને મેટલ સ્પુટરિંગ કરતી વખતે દર ઝડપી છે. RF સ્પટરિંગનો ઉપયોગ વધુ વ્યાપક છે, વાહક સામગ્રીના સ્પટરિંગ ઉપરાંત, બિન-વાહક પદાર્થોને સ્પટરિંગ કરવા ઉપરાંત ઓક્સાઇડ, નાઇટ્રાઇડ્સ અને કાર્બાઇડ અને અન્ય સંયોજન સામગ્રીની પ્રતિક્રિયાશીલ સ્પુટરિંગ તૈયારી માટે પણ. જો આરએફની આવર્તન વધે છે, તો તે માઇક્રોવેવ પ્લાઝ્મા સ્પુટરિંગ બની જાય છે. હાલમાં, ઇલેક્ટ્રોન સાયક્લોટ્રોન રેઝોનન્સ (ઇસીઆર) પ્રકારના માઇક્રોવેવ પ્લાઝ્મા સ્પુટરિંગનો સામાન્ય રીતે ઉપયોગ થાય છે.