કાર્યનો પરિચય અને લક્ષ્યનો ઉપયોગ

ટાર્ગેટ પ્રોડક્ટ વિશે, હવે એપ્લીકેશન માર્કેટ વધુ ને વધુ વ્યાપક છે, પરંતુ હજુ પણ કેટલાક યુઝર્સ ટાર્ગેટના ઉપયોગ વિશે બહુ સમજતા નથી, ચાલો RSM ટેક્નોલોજી વિભાગના નિષ્ણાતોને તેના વિશે વિગતવાર પરિચય આપવા દો,

　　1. માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક્સ

તમામ એપ્લીકેશન ઉદ્યોગોમાં, સેમિકન્ડક્ટર ઉદ્યોગમાં ટાર્ગેટ સ્પુટરિંગ ફિલ્મની ગુણવત્તા માટે સૌથી વધુ માંગની આવશ્યકતાઓ છે. 12 ઇંચ (300 એપિસ્ટેક્સિસ) ની સિલિકોન વેફર્સ હવે બનાવવામાં આવી છે. ઇન્ટરકનેક્ટની પહોળાઈ ઘટી રહી છે. સિલિકોન વેફર ઉત્પાદકોને મોટા કદ, ઉચ્ચ શુદ્ધતા, ઓછી વિભાજન અને લક્ષ્યના ઝીણા અનાજની જરૂર હોય છે, જેના માટે ઉત્પાદિત લક્ષ્યની વધુ સારી માઇક્રોસ્ટ્રક્ચરની જરૂર હોય છે.

　　2, ડિસ્પ્લે

ફ્લેટ પેનલ ડિસ્પ્લે (FPD) એ કેથોડ-રે ટ્યુબ (CRT)-આધારિત કમ્પ્યુટર મોનિટર અને ટેલિવિઝન બજારને વર્ષોથી ખૂબ પ્રભાવિત કર્યું છે, અને તે ITO લક્ષ્ય સામગ્રી માટેની તકનીક અને બજારની માંગને પણ આગળ ધપાવશે. બે પ્રકારના iTO લક્ષ્યો છે. એક સિન્ટરિંગ પછી ઇન્ડિયમ ઓક્સાઇડ અને ટીન ઓક્સાઇડ પાવડરની નેનોમીટર સ્થિતિનો ઉપયોગ કરવાનો છે, બીજો ઇન્ડિયમ ટીન એલોય લક્ષ્યનો ઉપયોગ કરવાનો છે.

　　3. સંગ્રહ

સ્ટોરેજ ટેક્નોલોજીના સંદર્ભમાં, ઉચ્ચ-ઘનતા અને મોટી-ક્ષમતાવાળી હાર્ડ ડિસ્કના વિકાસ માટે મોટી સંખ્યામાં વિશાળ અનિચ્છા ફિલ્મ સામગ્રીની જરૂર છે. CoF~Cu મલ્ટિલેયર કમ્પોઝિટ ફિલ્મ એ વિશાળ અનિચ્છા ફિલ્મનું વ્યાપકપણે વપરાતું માળખું છે. ચુંબકીય ડિસ્ક માટે જરૂરી TbFeCo એલોય લક્ષ્ય સામગ્રી હજી વધુ વિકાસમાં છે. TbFeCo સાથે ઉત્પાદિત ચુંબકીય ડિસ્કમાં મોટી સંગ્રહ ક્ષમતા, લાંબી સેવા જીવન અને પુનરાવર્તિત બિન-સંપર્ક ઇરેસેબિલિટીની લાક્ષણિકતાઓ છે.

　　લક્ષ્ય સામગ્રીનો વિકાસ:

સેમિકન્ડક્ટર ઇન્ટિગ્રેટેડ સર્કિટ (VLSI), ઓપ્ટિકલ ડિસ્ક, પ્લાનર ડિસ્પ્લે અને વર્કપીસની સપાટીના કોટિંગ્સમાં વિવિધ પ્રકારની સ્પટરિંગ પાતળી ફિલ્મ સામગ્રીનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ કરવામાં આવ્યો છે. 1990 ના દાયકાથી, સ્પટરિંગ ટાર્ગેટ મટિરિયલ અને સ્પુટરિંગ ટેક્નોલોજીના સિંક્રનસ વિકાસે વિવિધ નવા ઇલેક્ટ્રોનિક ઘટકોના વિકાસની જરૂરિયાતોને મોટા પ્રમાણમાં પૂરી કરી છે.