સ્પુટરીંગ ટેકનોલોજી અને સ્પુટરીંગ ટાર્ગેટ અને તેમની એપ્લીકેશન વચ્ચેનો તફાવત

આપણે બધા જાણીએ છીએ કે સ્પટરિંગ એ ફિલ્મ સામગ્રી તૈયાર કરવા માટેની મુખ્ય તકનીકોમાંની એક છે. તે શૂન્યાવકાશમાં એકત્રીકરણને વેગ આપવા માટે આયન સ્ત્રોત દ્વારા ઉત્પાદિત આયનોનો ઉપયોગ હાઇ-સ્પીડ આયન બીમ બનાવવા માટે કરે છે, ઘન સપાટી પર બોમ્બમારો કરે છે અને આયન ઘન સપાટી પરના અણુઓ સાથે ગતિ ઊર્જાનું વિનિમય કરે છે, જેથી ઘન સપાટી પરના અણુઓ ગતિશીલ ઊર્જાનું વિનિમય કરે છે. સપાટી નક્કર છોડો અને સબસ્ટ્રેટ સપાટી પર જમા કરો. બોમ્બાર્ડ સોલિડ એ સ્પુટરિંગ દ્વારા ફિલ્મ જમા કરવા માટેનો કાચો માલ છે, જેને સ્પુટરિંગ ટાર્ગેટ કહેવામાં આવે છે.

સેમિકન્ડક્ટર ઇન્ટિગ્રેટેડ સર્કિટ, રેકોર્ડિંગ મીડિયા, પ્લેનર ડિસ્પ્લે, ટૂલ અને ડાઇ સરફેસ કોટિંગ વગેરેમાં વિવિધ પ્રકારની સ્પુટર્ડ ફિલ્મ સામગ્રીનો વ્યાપકપણે ઉપયોગ કરવામાં આવ્યો છે.

સ્પુટરિંગ લક્ષ્યોનો ઉપયોગ મુખ્યત્વે ઇલેક્ટ્રોનિક અને માહિતી ઉદ્યોગોમાં થાય છે, જેમ કે સંકલિત સર્કિટ, માહિતી સંગ્રહ, લિક્વિડ ક્રિસ્ટલ ડિસ્પ્લે, લેસર મેમોરી, ઇલેક્ટ્રોનિક નિયંત્રણ સાધનો વગેરે; તે ગ્લાસ કોટિંગના ક્ષેત્રમાં પણ વાપરી શકાય છે; તેનો ઉપયોગ વસ્ત્રો-પ્રતિરોધક સામગ્રી, ઉચ્ચ તાપમાનના કાટ પ્રતિકાર, ઉચ્ચ-અંતના સુશોભન ઉત્પાદનો અને અન્ય ઉદ્યોગોમાં પણ થઈ શકે છે.

ત્યાં ઘણા પ્રકારના સ્પટરિંગ લક્ષ્યો છે, અને લક્ષ્યોના વર્ગીકરણ માટે વિવિધ પદ્ધતિઓ છે:

રચના અનુસાર, તેને મેટલ લક્ષ્ય, એલોય લક્ષ્ય અને સિરામિક સંયોજન લક્ષ્યમાં વિભાજિત કરી શકાય છે.

આકાર અનુસાર, તેને લાંબા લક્ષ્ય, ચોરસ લક્ષ્ય અને રાઉન્ડ લક્ષ્યમાં વિભાજિત કરી શકાય છે.

તેને માઇક્રોઇલેક્ટ્રોનિક લક્ષ્ય, ચુંબકીય રેકોર્ડિંગ લક્ષ્ય, ઓપ્ટિકલ ડિસ્ક લક્ષ્ય, કિંમતી ધાતુ લક્ષ્ય, ફિલ્મ પ્રતિકાર લક્ષ્ય, વાહક ફિલ્મ લક્ષ્ય, સપાટી ફેરફાર લક્ષ્ય, માસ્ક લક્ષ્ય, સુશોભન સ્તર લક્ષ્ય, ઇલેક્ટ્રોડ લક્ષ્ય અને એપ્લિકેશન ક્ષેત્ર અનુસાર અન્ય લક્ષ્યોમાં વિભાજિત કરી શકાય છે.

વિવિધ એપ્લિકેશનો અનુસાર, તેને સેમિકન્ડક્ટર સંબંધિત સિરામિક લક્ષ્યો, રેકોર્ડિંગ મધ્યમ સિરામિક લક્ષ્યો, ડિસ્પ્લે સિરામિક લક્ષ્યો, સુપરકન્ડક્ટિંગ સિરામિક લક્ષ્યો અને વિશાળ મેગ્નેટોરિસિસ્ટન્સ સિરામિક લક્ષ્યોમાં વિભાજિત કરી શકાય છે.