Obxectivo de pulverización catódica de NiCu por xunto Revestimento Pvd de película fina de alta pureza Fabricante e provedor personalizados

Níquel Cobre

NiCu Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza Imaxe destacada por encargo

Breve descrición:

Categoría	Obxectivo de pulverización de aliaxe
Fórmula química	NiCu
Composición	Níquel Cobre
Pureza	99,9%，99,95%，99,99%
Forma	Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida
Proceso de Produción	Función ao baleiro
Tamaño dispoñible	L≤3000mm, W≤300mm

Envíanos un correo electrónico

Detalle do produto

Etiquetas de produtos

Descrición do obxectivo de pulverización de níquel cobre

O cobre e o níquel están adxacentes entre si no sistema periódico de elementos, con números atómicos 29 e 28 e pesos atómicos 63,54 e 68,71. Estes dous elementos están intimamente relacionados e son completamente miscibles tanto en estado líquido como sólido.
O níquel ten un efecto marcado na cor das aliaxes de Cu-Ni. A cor do cobre faise máis clara a medida que se engade níquel. As aliaxes son case brancas prateadas a partir dun 15% de níquel. O brillo e a pureza da cor aumenta co contido de níquel; a partir dun 40% de níquel, dificilmente se pode distinguir unha superficie pulida da prata. A aliaxe Ni-Cu ten boas propiedades eléctricas e mecánicas e úsase amplamente nas industrias de exhibición e resistencia eléctrica.

Embalaxe obxectivo de pulverización de níquel cobre

O noso obxectivo de pulverización de níquel cobre está claramente marcado e etiquetado externamente para garantir unha identificación eficiente e un control de calidade. Tense moito coidado para evitar calquera dano que se poida causar durante o almacenamento ou o transporte.

Obter contacto

Os obxectivos de pulverización catódica de níquel cobre de RSM son de ultra alta pureza e uniformes. Están dispoñibles en varias formas, purezas, tamaños e prezos. As nosas proporcións típicas: Ni-20Cu wt%, Ni-30Cu wt%, Ni-56Cu wt%, Ni-70Cu wt%, Ni-80Cu wt%.
Somos especializados na produción de materiais de revestimento de película fina de alta pureza con excelente rendemento, así como a maior densidade posible e o menor tamaño de gran medio posible para o seu uso en revestimento de moldes, decoración, pezas de automóbiles, vidro de baixa emisividade, circuíto integrado de semiconductores, película fina. resistencia, visualización gráfica, aeroespacial, gravación magnética, pantalla táctil, batería solar de película fina e outros vapores físicos. aplicacións de deposición (PVD). Envíanos unha consulta sobre os prezos actuais dos obxectivos de pulverización catódica e outros materiais de deposición que non figuran na lista.

Anterior: NiFe Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Seguinte: NiW Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida