O obxectivo ten moitas funcións e unha ampla aplicación en moitos campos. O novo equipo de pulverización catódica case usa poderosos imáns para espirar os electróns para acelerar a ionización do argón ao redor do obxectivo, o que aumenta a probabilidade de colisión entre o obxectivo e os ións de argón.
Aumentar a taxa de pulverización. Xeralmente, a pulverización catódica DC úsase para o revestimento metálico, mentres que a pulverización catódica de comunicación RF úsase para materiais magnéticos cerámicos non condutores. O principio básico é usar a descarga luminosa para golpear os ións de argón (AR) na superficie do obxectivo no baleiro, e os catións do plasma aceleraranse para precipitarse á superficie do electrodo negativo como material salpicado. Este impacto fará que o material do obxectivo saia voando e se deposite sobre o substrato para formar unha película.
En xeral, hai varias características do revestimento de película mediante o proceso de pulverización catódica:
(1) Pódense converter metal, aliaxe ou illante en datos de película fina.
(2) En condicións de ambientación adecuadas, a película coa mesma composición pódese facer a partir de obxectivos múltiples e desordenados.
(3) A mestura ou composto de material obxectivo e moléculas de gas pódese facer engadindo osíxeno ou outros gases activos na atmosfera de descarga.
(4) Pódense controlar a corrente de entrada obxectivo e o tempo de pulverización catódica, e é fácil obter un grosor de película de alta precisión.
(5) É beneficioso para a produción doutras películas.
(6) As partículas pulverizadas apenas se ven afectadas pola gravidade e o obxectivo e o substrato pódense organizar libremente.
Hora de publicación: 24-maio-2022