A próxima xeración de grandes telescopios precisará de espellos que sexan robustos, altamente reflectantes, uniformes e que teñan un diámetro de base superior a 8 metros.
Tradicionalmente, os revestimentos evaporativos requiren unha ampla cobertura de fonte e altas taxas de deposición para evaporar eficazmente os revestimentos reflectores. Ademais, hai que ter especial coidado para evitar a evaporación dos chafráns, o que pode levar ao crecemento de estruturas columnares e a redución da reflectividade.
O revestimento por pulverización catódica é unha tecnoloxía única que ofrece solucións axeitadas para revestimentos reflectantes dunha e multicapa en substratos grandes. A pulverización catódica a longa distancia é un método de procesamento de semicondutores moi utilizado e proporciona unha maior densidade de revestimento e adhesión en comparación cos revestimentos pulverizados.
Esta tecnoloxía crea unha cobertura uniforme ao longo de toda a curvatura do espello e require un enmascaramento mínimo. Non obstante, a pulverización catódica de aluminio de longo alcance aínda non atopou aplicación efectiva en grandes telescopios. A atomización de tiro curto é outra tecnoloxía que require equipamentos avanzados e máscaras complexas para compensar a curvatura do espello.
Este traballo demostra unha serie de experimentos para avaliar o efecto dos parámetros de pulverización de longo alcance sobre a reflectividade do espello en comparación cun espello de aluminio de superficie frontal convencional.
Os resultados experimentais mostran que o control do vapor de auga é un factor importante na creación de revestimentos de espellos de aluminio duradeiros e altamente reflectantes, e tamén mostran que a pulverización a longa distancia en condicións de baixa presión de auga pode ser moi eficaz.
RSM (Rich Special Materials Co., LTD.) ofrece tipos de obxectivos de pulverización catódica e varillas de aliaxe
Hora de publicación: 28-09-2023