Materiais especiais ricos Co., Ltd. proporcionar obxectivos de pulverización catódica de circonio de alta pureza coa maior densidade posible e os tamaños de grans medios máis pequenos posibles para o seu uso en aplicacións ópticas e de visualización de semicondutores, deposición química de vapor (CVD) e deposición física de vapor (PVD). Os nosos obxectivos estándar de pulverización catódica para película delgada están dispoñibles monoblock ou unidos con dimensións e configuracións de obxectivos planos de ata 820 mm con localizacións de perforación e roscado, biselado, ranuras e soporte deseñados para funcionar tanto con dispositivos de pulverización catódica máis antigos como cos equipos de proceso máis recentes. como revestimento de grandes superficies para enerxía solar ou pilas de combustible e aplicacións flip-chip. Tamén se producen obxectivos de tamaño de investigación, así como tamaños e aliaxes personalizados. Todos os obxectivos son analizados mediante as técnicas mellor demostradas, incluíndo a fluorescencia de raios X (XRF).
Hora de publicación: maio-03-2023