Campo de aplicación do material obxectivo de pulverización catódica de molibdeno

O molibdeno é un elemento metálico, usado principalmente na industria siderúrxica, a maior parte do cal se usa directamente na fabricación de aceiro ou ferro fundido despois de que se preme o óxido de molibdeno industrial, e unha pequena parte del é fundido en ferro molibdeno e despois utilízase no aceiro. facendo. Pode mellorar a resistencia, dureza, soldabilidade e tenacidade da aliaxe, pero tamén mellorar a súa resistencia á alta temperatura e á corrosión. Entón, en que campos se utilizan os obxectivos de pulverización catódica de molibdeno? A seguinte é a compartición do editor de RSM.

　　Aplicación de material obxectivo de pulverización catódica de molibdeno

Na industria electrónica, o obxectivo de pulverización catódica de molibdeno úsase principalmente en pantallas planas, electrodos de células solares de película fina e material de cableado e material de barreira semicondutor. Estes baséanse no alto punto de fusión do molibdeno, alta condutividade eléctrica, baixa impedancia específica, mellor resistencia á corrosión e bo rendemento ambiental.

O molibdeno é un dos materiais preferidos para pulverizar o obxectivo de pantalla plana debido ás súas vantaxes de só 1/2 da impedancia e a tensión da película en comparación co cromo e sen contaminación ambiental. Ademais, o uso de molibdeno nos compoñentes LCD pode mellorar moito o rendemento da LCD en brillo, contraste, cor e vida útil.

Na industria de pantallas planas, unha das principais aplicacións do mercado do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno é TFT-LCD. A investigación de mercado indica que os próximos anos serán o pico do desenvolvemento de LCD, cunha taxa de crecemento anual de preto do 30%. Co desenvolvemento de LCD, o consumo de obxectivos de pulverización de LCD tamén aumenta rapidamente, cunha taxa de crecemento anual de preto do 20%. En 2006, a demanda global de material obxectivo de pulverización catódica de molibdeno era de preto de 700 T, e en 2007, era de preto de 900 T.

Ademais da industria de pantallas planas, co desenvolvemento da nova industria enerxética, a aplicación do obxectivo de pulverización catódica de molibdeno en células fotovoltaicas solares de película fina está aumentando. A capa de electrodo de batería de película fina CIGS (Cu indio, galio selenio) fórmase no obxectivo de pulverización catódica de molibdeno mediante pulverización catódica.