Benvido aos nosos sitios web!

CuCr Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Cobre Cromo

Breve descrición:

Categoría

Obxectivo de pulverización de aliaxe

Fórmula química

CuCr

Composición

Cobre Cromo

Pureza

99,9%,99,95%,99,99%

Forma

Placas, obxectivos de columnas, cátodos de arco, feitos a medida

Proceso de Produción

Función ao baleiro, PM

Tamaño dispoñible

L≤200mm, W≤200mm


Detalle do produto

Etiquetas de produtos

O obxectivo de pulverización da aliaxe de cobre e cromo é un material a base de Cu ao que se lle engade elemento de cromo. Ten alta resistencia mecánica e dureza, excelente condutividade eléctrica e térmica. A aliaxe Cu-Cr gañou unha variedade de aplicacións que operan equipos a altas temperaturas debido ás súas características específicas: aptitude para altas temperaturas, resistencia á oxidación, resistencia á corrosión e maquinabilidade.

O material de cobre Cromo ten unha alta dureza, resistencia ao desgaste, resistencia á flexión, resistencia ás fisuras e alta temperatura de transición. é unha especie de enerxía renovable. O cromo trivalente presente non supón perigo para a saúde humana. Tamén é un material condutor común. O cobre cromo utilizouse amplamente en produtos de tecnoloxía optoelectrónica, como panel táctil, LCD e células solares.

Rich Special Materials é un fabricante de Sputtering Target podería producir materiais de Sputtering de cobre cromo segundo as especificacións dos clientes. Para máis información, póñase en contacto connosco.


  • Anterior:
  • Seguinte: