CrW Alloy Sputtering Target Revestimento Pvd de película fina de alta pureza feito a medida

Os obxectivos prepáranse mesturando po de cronio e volframio ou fundíndose ao baleiro seguido da compactación ata a súa densidade total. Os materiais así compactados son opcionalmente sinterizados e despois fórmanse na forma de destino desexada.

O obxectivo de pulverización de cromo tungsteno ten unha pureza elevada, unha microestrutura homoxénea, unha alta densidade e un tamaño de gran fino. Podería ser fabricado en tamaño grande por HIP. O revestimento Cr-W é perfecto para unha serie de industrias e aplicacións, debido á súa resistencia á corrosión, dureza, forza dieléctrica e correntes de corte mínimas.

Rich Special Materials é un fabricante de Sputtering Target podería producir materiais de Sputtering de cronio tungsteno segundo as especificacións dos clientes. Para máis información, póñase en contacto connosco.