Obxectivo de pulverización catódica de aliaxe CrAl Revestimento PVD de película fina de alta pureza feito a medida
Aluminio cromado
A fabricación de obxectivos de pulverización catódica de cromo aluminio comprende os seguintes pasos:
1. Moenda e mestura en po.
2. Tratamento de prensado isostático en quente para obter produtos semielaborados.
3. Mecanizado do material de destino de sputtering de aliaxe de aluminio de cromo para obter o material de destino de sputtering de aliaxe de aluminio de cromo.
Durante o proceso de deposición dos obxectivos de pulverización catódica de CrAl, fórmase un revestimento duro de aluminio-cromo-nitruro (AlCrN). Este revestimento mostra propiedades de alta dureza e resistencia á oxidación incluso a altas temperaturas. Os cortadores poderían funcionar con avances elevados para aumentar a produtividade e aumentar a calidade cando se usan máquinas CNC.
Os nosos obxectivos típicos de AlCr e as súas propiedades
| Cr-70Alen % | Cr-60Alen % | Cr-50Alen % | |
| Pureza (%) | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 | 99,8/99,9/99,95 |
| Densidade（g/cm3） | 3.7 | 4.35 | 4,55 |
| Gchoiva Tamaño(µm) | 100/50 | 100/50 | 100/50 |
| Proceso | HIP | HIP | HIP |
Rich Special Materials está especializada na fabricación de obxectivos de pulverización catódica e podería producir materiais de pulverización de cromo de aluminio segundo as especificacións dos clientes. Os nosos produtos presentan excelentes propiedades mecánicas, estrutura homoxénea, superficie pulida sen segregación, poros ou fendas. Para máis información, póñase en contacto connosco.
Categorías de produtos
-
AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
AlNi Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...
-
AlSiCu Alloy Sputtering Target High Purity Thin...
-
AlZn Sputtering Target High Purity Thin Film PV...
-
Película fina de alta pureza obxectivo de pulverización catódica de AlSnCu...
-
AlNb Alloy Sputtering Target High Purity Thin F...