Revestimento Pvd de película fina de alta pureza de obxectivo de pulverización de aliaxe CoNbZr feito a medida

Os obxectivos de pulverización catódica feitos de materiais ferromagnéticos son fundamentais para a deposición de películas finas en industrias como o almacenamento de datos e VLSI (integración a moi grande escala)/conductores. Cobalto Niobio Zirconio fábricase fundindo as aliaxes nun ambiente de baleiro e posterior fundición para formar a forma de destino desexada. O obxectivo de pulverización catódica de aliaxe CoNbZr úsase a miúdo como fonte de deposición para a capa ferromagnética na produción de medios de almacenamento magnético e a capa de transición na fabricación de baterías.

Rich Special Materials está especializada na fabricación de obxectivos de pulverización catódica e podería producir materiais de pulverización catódica de cobalto niobio e circonio segundo as especificacións dos clientes. Para máis información, póñase en contacto connosco.