AlCu Sputtering Target Revestimento PVD de película fina de alta pureza feito a medida

O obxectivo de pulverización catódica de aluminio e cobre é perfecto para unha serie de industrias e aplicacións, debido á súa alta dureza, resistencia á tracción e peso lixeiro. Normalmente ten 1-3% de contido de cobre e ten as propiedades químicas similares ao aluminio. O AlCu ten altas propiedades mecánicas, excelente maquinabilidade e aptitude para altas temperaturas, polo que podería ser o material axeitado para a aliaxe de aluminio de alto rendemento. O obxectivo de pulverización catódica de aliaxe de AlCu de alta pureza podería usarse nunha ampla gama de campos industriais desde semicondutores e compoñentes funcionais electrónicos.

Rich Special Materials está especializada na fabricación de obxectivos de pulverización catódica e podería producir materiais de pulverización de cromo de aluminio segundo as especificacións dos clientes. Os nosos produtos presentan excelentes propiedades mecánicas, estrutura homoxénea, superficie pulida sen segregación, poros ou fendas. Para máis información, póñase en contacto connosco.