Tha polysilicon na stuth targaid sputtering cudromach. Le bhith a’ cleachdadh dòigh sputtering magnetron gus SiO2 agus filmichean tana eile ullachadh faodaidh an stuth matrix a bhith nas fheàrr an aghaidh optigeach, dielectric agus creimeadh, a tha air a chleachdadh gu farsaing ann an scrion suathaidh, optigeach agus gnìomhachasan eile.
Is e am pròiseas a bhith a’ tilgeadh criostalan fada a bhith a’ toirt a-mach daingneachadh stiùiridh sileacain leaghan bhon bhonn gu mullach mean air mhean le bhith a’ cumail smachd ceart air teòthachd an teasadair ann an raon teth an fhùirneis ingot agus sgaoileadh teas an stuth insulation teirmeach, agus an Is e astar criostalan solidification fada 0.8 ~ 1.2cm / h. Aig an aon àm, ann am pròiseas solidification stiùiridh, faodar buaidh sgaraidh eileamaidean meatailt ann an stuthan silicon a thoirt gu buil, faodar a ’mhòr-chuid de na h-eileamaidean meatailt a ghlanadh, agus faodar structar gràin silicon polycrystalline èideadh a chruthachadh.
Feumaidh tilgeadh polysilicon cuideachd a bhith air a dhopadh a dh’aona ghnothach anns a’ phròiseas cinneasachaidh, gus an ìre de neo-chunbhalachd glacaidh anns an leaghadh sileacain atharrachadh. Is e am prìomh dopant de polysilicon cast seòrsa p sa ghnìomhachas prìomh alloy boron silicon, anns a bheil susbaint boron timcheall air 0.025%. Tha an ìre dopaidh air a dhearbhadh le seasmhachd targaid an wafer silicon. Is e an resistivity as fheàrr 0.02 ~ 0.05 Ω • cm, agus tha an dùmhlachd boron co-fhreagarrach timcheall air 2 × 1014cm-3. is e, tha an eileamaid boron air a chuairteachadh ann an caisead ann an stiùireadh dìreach an ingot, agus bidh an resistivity a’ dol sìos mean air mhean bhon bhonn gu mullach an ingot.
Ùine puist: Iuchar-26-2022