Píosaí Silicíd Tungstain

Úsáidtear WSi2 silicíd tungstain mar ábhar turraing leictreach i micrileictreonaic, shunting ar sreanga polysilicon, sciath frith-ocsaídiúcháin agus sciath sreang friotaíochta. Úsáidtear silicíd tungstain mar ábhar teagmhála i micrileictreonaic, le friotachas 60-80μΩcm. Tá sé déanta ag 1000 ° C. Úsáidtear é de ghnáth mar shunt do línte polysilicon chun a seoltacht a mhéadú agus luas comhartha a mhéadú. Is féidir an ciseal Silicíd tungstain a ullmhú trí thaisceadh ceimiceach gaile, amhail sil-leagan gaile. Bain úsáid as heicseafluairíd aonsailéine nó déchlóraisiléin agus tungstain mar ghás amhábhar. Tá an scannán taiscthe neamh-stoichiometric agus éilíonn anáil a chlaochlú go foirm níos seoltaí stoichiometric.

Is féidir le silicíd tungstain ionad an scannáin tungstain níos luaithe. Úsáidtear silicíd tungstain freisin mar chiseal bacainn idir sileacain agus miotail eile.

Tá silicíd tungstain an-luachmhar freisin i gcórais mhicrileictreomeicniúla, ina measc úsáidtear silicíd tungstain go príomha mar scannán tanaí le haghaidh micreachiorcaid a mhonarú. Chun na críche sin, is féidir an scannán silicíde tungstain a plasma-eitseáilte ag baint úsáide as, mar shampla, silicíd.

Déanann Rich Special Materials speisialtóireacht i Monarú Sputtering Target agus d'fhéadfadh sé Silicíd Tungstain a tháirgeadhpíosaíde réir sonraíochtaí na gCustaiméirí. Le haghaidh tuilleadh eolais, déan teagmháil linn.