Anois tuigeann níos mó agus níos mó úsáideoirí na cineálacha spriocanna agusa fheidhmchláir, ach b'fhéidir nach bhfuil a fhoroinnt an-soiléir. Anois, a ligean arRSM innealtóir roinnt leatroinnt ionduchtaithe de spriocanna sputtering maighnéadron.
Sprioc sputtering: sprioc sciath sputtering miotail, sprioc sciath sputtering cóimhiotail, sprioc sciath sputtering ceirmeach, sprioc sputtering criadóireachta bóride, sprioc sputtering ceirmeach chomhdhúile, sprioc sputtering ceirmeach fluairíd, sprioc sputtering ceirmeach nítríde, sprioc ceirmeach ocsaíd, sprioc sputtering ceirmeach seiléiníde, sputtering ceirmeach silicíde sprioc, sprioc sputtering criadóireachta sulfíde, sprioc sputtering ceirmeach telluride, spriocanna ceirmeacha eile, Cróimiam sprioc dópáilte ceirmeach ocsaíd sileacain (CR SiO), sprioc fosfíde indium (INP), sprioc arsanide luaidhe (pbas), sprioc arsenide indium (InAs).
Tá sputtering Magnetron roinnte go ginearálta ina dhá chineál: sputtering DC agus sputtering RF. Tá prionsabal an trealaimh sputtering DC simplí, agus tá a ráta tapa freisin nuair a bhíonn miotail á sputtering. Úsáidtear RF sputtering go forleathan. Chomh maith le sonraí seoltacha a sputtering, is féidir leis sonraí neamhsheoltach a sputter freisin. Is féidir an sprioc sputtering a úsáid freisin le haghaidh sputtering imoibríoch chun sonraí cumaisc a ullmhú mar ocsaídí, nítrídí agus cairbídí. Má mhéadaíonn an minicíocht RF, beidh sé sputtering plasma micreathonn. Faoi láthair, úsáidtear sputtering plasma micreathonn athshondas leictreon-ciocltron (ECR) go coitianta.
Am postála: Bealtaine-26-2022