Tá go leor éifeachtaí ag an sprioc, agus tá an spás forbartha margaidh mór. Tá sé an-úsáideach i go leor réimsí. Úsáideann beagnach gach trealamh sputtering nua maighnéid chumhachtacha chun leictreoin bíseach chun ianú argón timpeall an sprice a luathú, rud a fhágann go bhfuil méadú ar an dóchúlacht go dtarlóidh imbhualadh idir na hiain sprice agus na hiain argóin. Anois, déanaimis féachaint ar an ról atá ag sputtering sputtering i bhfolús sciath.
Feabhas a chur ar an ráta sputtering. Go ginearálta, úsáidtear sputtering DC le haghaidh sciath miotail, agus úsáidtear sputtering RF AC le haghaidh ábhair mhaighnéadacha ceirmeacha neamh-seoltaí. Is é an bunphrionsabal ná urscaoileadh glow a úsáid chun hiain Argón (AR) a bhualadh ar dhromchla an sprice i bhfolús, agus luasóidh na cations sa phlasma go dtiocfaidh siad go dtí an dromchla leictreoid diúltach mar an t-ábhar splashed. Cuirfidh an tionchar seo ar ábhar an sprice eitilt amach agus taisceadh ar an tsubstráit chun scannán a dhéanamh.
Go ginearálta, tá roinnt saintréithe sciath scannáin trí phróiseas sputtering: (1) is féidir miotail, cóimhiotail nó inslitheoir a dhéanamh i sonraí scannáin.
(2) Faoi choinníollacha socraithe cuí, is féidir an scannán leis an gcomhdhéanamh céanna a dhéanamh ó spriocanna iolracha agus neamhord.
(3) Is féidir an meascán nó cumaisc de sprioc-ábhar agus móilíní gáis a tháirgeadh trí ocsaigin nó gáis gníomhacha eile a chur san atmaisféar scaoilte.
(4) Is féidir an sruth ionchuir sprioc agus an t-am sputtering a rialú, agus tá sé éasca tiús scannáin ardchruinneas a fháil.
(5) I gcomparáid le próisis eile, tá sé fabhrach do tháirgeadh scannán aonfhoirmeach limistéar mór.
(6) Níl tionchar beagnach ag an domhantarraingthe ar na cáithníní sputtered, agus is féidir suíomhanna an sprioc agus an tsubstráit a shocrú go saor.
Am postála: Bealtaine-17-2022