Wolkom op ús websiden!
Nijs
-
Tarieding technology en tapassing fan hege suverens wolfraam doel
Fanwegen de hege temperatuerstabiliteit, hege elektroanenmigraasjebestriding en hege elektroanemisjekoëffisjint fan fjoerwurk wolfraam en wolfraam alloys, hege suverens wolfraam en wolfraam alloy doelen wurde benammen brûkt foar it meitsjen fan poarte elektroden, ferbining wiring, diffusion barriêre ...Lês mear -
Hege entropy alloy sputtering doel
High entropy alloy (HEA) is in nij type metaal alloy ûntwikkele yn de ôfrûne jierren. Syn komposysje is gearstald út fiif of mear metalen eleminten. HEA is in subset fan multi-primêre metaallegeringen (MPEA), dy't metaallegeringen binne mei twa of mear haadeleminten. Lykas MPEA is HEA ferneamd om syn superieure ...Lês mear -
Sputtering doel - nikkel chromium doel
Doel is it kaai basismateriaal foar de tarieding fan tinne films. Op it stuit omfetsje de meast brûkte metoaden foar tarieding en ferwurking fan doelen benammen poedermetallurgytechnology en tradisjonele alloy-smelttechnology, wylst wy de mear technyske en relatyf nije fakuümsmelting oannimme ...Lês mear -
Ni-Cr-Al-Y sputter doel
As in nij type alloy materiaal, nikkel-chromium-aluminium-yttrium alloy is in soad brûkt as coating materiaal op it oerflak fan waarme ein dielen lykas loftfeart en loftfeart, gasturbine blades fan auto's en skippen, hege druk turbine shells, ensfh. Troch syn goede waarmtebestriding, c...Lês mear -
Yntroduksje en tapassing fan Carbon (pyrolytyske grafyt) doel
Grafytdoelen wurde ferdield yn isostatysk grafyt en pyrolytysk grafyt. De bewurker fan RSM sil pyrolytyske grafyt yn detail yntrodusearje. Pyrolytyske grafyt is in nij soarte koalstofmateriaal. It is in pyrolytyske koalstof mei hege kristallijne oriïntaasje dy't wurdt ôfset troch gemyske damp op ...Lês mear -
Wolfram Carbide Sputtering Targets
Wolframkarbid (gemyske formule: WC) is in gemyske ferbining (krekt, in karbid) mei gelikense parten wolfraam en koalstofatomen. Yn syn meast basale foarm is wolfraamcarbid in fyn griis poeder, mar it kin wurde yndrukt en foarme yn foarmen foar gebrûk yn yndustriële masines, snijwurk ...Lês mear -
Yntroduksje en tapassing fan Iron Sputtering Target
Koartlyn woe klant it produkt wyn read ferve. Hy frege technikus fan RSM oer suver izeren sputtering doel. Litte wy no wat kennis diele oer izeren sputterdoel mei jo. It izeren sputterdoel is in metalen fêste doel gearstald út izermetaal mei hege suverens. Izer...Lês mear -
Tapassing fan AZO Sputtering Target
AZO-sputterdoelen wurde ek oantsjutten as aluminium-dopede sinkokside-sputterdoelen. Aluminium-doped sinkokside is in transparant liedend okside. Dit okside is ûnoplosber yn wetter, mar is thermysk stabyl. AZO-sputterdoelen wurde typysk brûkt foar ôfsetting fan tinne film.Lês mear -
Manufacturing metoade fan hege entropy alloy
Koartlyn hawwe in protte klanten frege oer hege entropy-legering. Wat is de produksjemetoade fan hege entropy-legering? No litte wy it mei jo diele troch de redaksje fan RSM. De produksjemetoaden fan legeringen mei hege entropy kinne wurde ferdield yn trije haadwizen: floeibere mingen, fêste mix ...Lês mear -
Tapassing fan Semiconductor Chip Sputtering Target
Rich Special Material Co., Ltd. kin produsearje hege suverens aluminium sputtering doelen, koper sputtering doelen, tantaal sputtering doelen, titanium sputtering doelen, ensfh foar de semiconductor yndustry. Semiconductor chips hawwe hege technyske easken en hege prizen foar sputtering t ...Lês mear -
Aluminium scandium alloy
Om de film basearre piëzoelektryske MEMS (pMEMS) sensor en radiofrekwinsje (RF) filterkomponinten yndustry te stypjen, wurdt de aluminium scandium alloy makke troch Rich Special Material Co., Ltd. . Th...Lês mear -
Tapassing fan ITO sputtering doelen
Lykas wy allegearre witte, is de technologyske ûntwikkelingstrend fan sputterjen fan doelmaterialen nau besibbe oan de ûntwikkelingstrend fan tinnefilmtechnology yn 'e applikaasjesektor. As de technology fan filmprodukten as komponinten yn 'e tapassingssektor ferbetteret, moat de doeltechnology ...Lês mear