Wat is yttrium sputtering doel?
Yttrium doel wurdt benammen produsearre troch it metalen elemint yttrium sputtering doel, omdat yttrium elemint (Y) is ien fan de seldsume ierde metalen eleminten, sa yttrium doel is ek bekend as seldsum ierde doel.
Yttrium-doelen wurde benammen brûkt yn technology foar sputterdeposysje. Sputtering deposition technology is ien fan de fysike damp deposition (PVD) technologyen, en is ien fan de wichtichste technologyen foar de tarieding fan elektroanyske tinne film materialen. Troch it oerflak fan it doel te bombardearjen mei dieltsjes mei hege enerzjy (lykas ionen of elektroanenstralen), wurde de doelatomen of -molekulen útsputterd en op in oar substraat dellein om de winske film of coating te foarmjen.
It yttriumdoel is gewoan it boarnemateriaal fan 'e winske film of coating taret troch de PVD-technology.
Wat isdeyttrium sputtering doel brûkt foar?
Yttrium-doelen hawwe in breed oanbod fan tapassingen op ferskate fjilden, de folgjende binne de wichtichste tapassingsgebieten:
- Halfgeleidermaterialen: Yn 'e healgelearderyndustry wurde yttriumdoelen brûkt om spesifike lagen te produsearjen yn halfgeleidermaterialen as elektroanyske komponinten, lykas transistors, yntegreare circuits, ensfh.
- Optyske coating: Op it mêd fan optyk kinne yttrium-doelen brûkt wurde om optyske lagen te meitsjen mei hege brekingsyndeks en lege ferspriedingsfrekwinsje, dy't in wichtige rol spylje yn 'e produksje fan optyske apparaten lykas lasers en optyske filters.
- Tinne film deposition: It yttrium doel beset in wichtige posysje yn tinne film deposition technology, en syn hege suverens, goede stabiliteit, en spesifike fysike en gemyske eigenskippen meitsje it in ideale kar foar it tarieden fan in ferskaat oan tinne film materialen. Dizze tinne filmmaterialen hawwe in breed oanbod fan tapassingen yn optyske, elektroanyske, magnetyske en oare fjilden.
- Medysk fjild: yttrium-doelen hawwe wichtige tapassingen yn bestralingsgeneeskunde, lykas in boarne fan röntgen- en gamma-strielen, diagnostyske ôfbylding (lykas CT-scans), en bestralingstherapy. Derneist kinne spesifike isotopen fan yttrium (lykas Y-90) ek brûkt wurde yn radiofarmaseutika foar doelgerichte behanneling fan spesifike kankers.
- Nukleêre enerzjy-yndustry: Yn kearnreaktors wurde yttrium-doelen brûkt as levermaterialen foar it kontrolearjen fan de snelheid en stabiliteit fan kearnreaksjes fanwegen har poerbêste neutronopnamekapasiteit.
Opmerking: Om't de prestaasjeseasken fan yttrium-doelen yn ferskate tapassingsfjilden oars kinne wêze, moat it passende doel selektearre wurde neffens de eigentlike situaasje yn 'e spesifike applikaasje. (Lykas spesifike suverens, gearstalling ratio, grutte, foarm, ensfh, oanpast neffens spesifike easken.)
Produksjetechnology fan yttrium-sputterdoelen?
1. Prepare yttrium poeder 2. HIP, drukken moulding 3. Hege temperatuer sintering 4.Subsequent ferwurking (Snijen, Polisearjen, ensfh) 5. Cleaning en packing
Opmerking: Njonken de boppesteande basisstappen kinne, neffens de spesifike tariedingmetoade en tapassingsbehoeften, yttrium-sputterdoelen ek oare stappen en technologyen belûke, lykas de sputtermetoade, fakuümsmeltmetoade, ensfh. prestaasjes en struktuer fan it doelmateriaal.
Hoe kinne jo in sputterdoel fan hege kwaliteit kieze?
De folgjende list de 7 wichtige faktoaren foar it selektearjen fan sputterdoelen fan hege kwaliteit:
1. Hoigh suver
Doelen mei hege suverens hawwe bettere materiaaleigenskippen en stabiler fysike en gemyske eigenskippen, wat essensjeel is om de kwaliteit en prestaasjes fan sputterende coating te garandearjen. Spesifike easken foar suverens moatte wurde bepaald neffens it tapassingsscenario, guon ienfâldige applikaasjescenario's hoege net ultra-hege suverens te stribjen, om gjin ûnnedige kosten te ferheegjen. Wat by jo past is it bêste.
2.Stabiliteit
De stabiliteit fan it doel is like wichtich, wat materiaalferlies of prestaasjesfluktuaasjes kin foarkomme by sputterjen. Dêrom, yn 'e seleksje, kieze dy spesjale behanneling of hawwe goede stabiliteit fan it produkt.
3. Grutte en foarm
De grutte en foarm fan it sputterdoel moatte wurde selektearre neffens de spesifike easken fan 'e coatingapparatuer om oan te passen oan ferskate sputterprosessen en produksjebehoeften. It garandearjen dat it doel oerienkomt mei de apparatuer fergruttet de sputtereffisjinsje en ferminderet ôffal.
4.Tichtheid
Tichtheid is ien fan 'e wichtige yndikatoaren om de kwaliteit fan it doelmateriaal te mjitten. Doelmateriaal mei hege tichtheid kin soargje foar better sputtereffekt. By it selektearjen moatte jo omtinken jaan oan de tichtensgegevens fan it doel, en besykje produkten te kiezen mei hegere tichtens.
5.Processing accuracy
De ferwurkingskrektens fan it doel is ek ien fan 'e faktoaren dy't moatte wurde beskôge. Yn 't algemien is de ferwurkingsnauwkeurigens fan it doel nedich om binnen ± 0.1mm te wêzen om de stabiliteit fan it sputterproses en de uniformiteit fan' e coatingkwaliteit te garandearjen.
6.Spesjale easken
Foar guon spesjale tapassingsscenario's, lykas de needsaak foar hege ljochttransmittânsje, lege opname fan it doel (optyske coating) of hege konduktiviteit, hege stabiliteit fan it doel (elektroanysk fjild), moatte wurde selektearre neffens de spesifike behoeften fan it korrespondearjende doel. type.
7.Selektearje in profesjonele fabrikant of leveransier.
Post tiid: Apr-17-2024