Wy witte allegear dat sputtering ien fan 'e wichtichste technologyen is foar it tarieden fan filmmaterialen. It brûkt de ionen produsearre troch de ionboarne om de aggregaasje yn fakuüm te fersnellen om in hege-snelheid ionbeam te foarmjen, it fêste oerflak te bombardearjen, en de ioanen útwikselje kinetyske enerzjy mei de atomen op it fêste oerflak, sadat de atomen op it fêste oerflak oerflak litte de fêste en deponearje op it substraat oerflak. De bombardearre fêste stof is it grûnstof foar it dellizzen fan film troch sputterjen, wat sputterdoel neamd wurdt.
Ferskate soarten sputtered filmmaterialen binne in protte brûkt yn yntegreare semiconductor-sirkels, opnamemedia, planêre werjefte, ark en die oerflakcoating ensafuorthinne.
Sputtering doelen wurde benammen brûkt yn elektroanyske en ynformaasje yndustry, lykas yntegrearre circuits, ynformaasje opslach, floeibere kristal byldskermen, laser oantinkens, elektroanyske kontrôle apparatuer, etc; It kin ek brûkt wurde op it mêd fan glêscoating; It kin ek brûkt wurde yn wear-resistant materialen, hege temperatuer corrosie ferset, hege-ein dekorative produkten en oare yndustry.
D'r binne in protte soarten sputterende doelen, en d'r binne ferskate metoaden foar de klassifikaasje fan doelen:
Neffens de gearstalling, it kin wurde ferdield yn metalen doel, alloy doel en keramyske gearstalde doel.
Neffens de foarm kin it wurde ferdield yn lang doel, fjouwerkant doel en rûn doel.
It kin wurde ferdield yn mikro-elektroanyske doel, magnetysk opname doel, optyske skiif doel, edelmetaal doel, film ferset doel, conductive film doel, oerflak modifikaasje doel, masker doel, dekorative laach doel, elektrodes doel en oare doelen neffens it tapassing fjild.
Neffens ferskate tapassingen kin it wurde ferdield yn semiconductor-relatearre keramyske doelen, opnimmen fan medium keramyske doelen, werjaan fan keramyske doelen, supergeleidende keramyske doelen en gigantyske magnetoresistinsje keramyske doelen.
Post tiid: Jul-29-2022