FeCo Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Iron Cobalt sputtering doel wurdt fabrisearre troch middel fan fakuüm smelten en it hat de brede oanpart berik (5% -70% Cobalt ynhâld). Kobalt en izer koene fêste oplossingen foarmje, sadat de alloying fan dizze twa eleminten homogene mikrostruktuer, unifoarme nôtgrutte, hege suverens en tichtheid krije koe. It koe wurde brûkt foar it dellizzen fan tinne films op in breed ferskaat oan materialen yn gegevens opslach yndustry foar syn treflike sêfte magnetyske eigendom.

Cobalt Iron alloy faak brûkt as katalysator yn 'e produksje fan polycrystalline diamant (PCD) dat soe oars nimme noch mear druk en in hegere temperatuer te berikken. Diamant produsearre troch Co-Fe alloy hat hege sterkte en suverens en kin wêze de potinsjele materialen foar hurde cutting en foarmjen ark.

Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe Iron Cobalt Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten. Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.