CrSi Alloy Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

De fabrikaazje fan Chronium Silicon Sputtering Targets omfettet de folgjende stappen:
1.Vacuum melting fan Silisium en Chronium te krijen stap alloys.
2.Powder grinding, ynpakt en evakuaasje.
3.Hot isostatyske drukke behanneling om semi-ferwurke produkten te krijen.
4.Machining it rûge chromium-silisium-legering sputterende doelmateriaal om it chromium-silisium-legering sputterende doelmateriaal te krijen.

CrSi wurdt faak brûkt as it filmmateriaal mei hege ferset, it hat de hege ferset, stabiliteit en lege temperatuerkoëffisjint fan ferset. Chronium en Silisium koene in protte silicidefazen produsearje lykas Cr3Si, Cr5Si3, CrSi, CrSi2. It produksjeproses, komposysje en waarmtebehannelingproses fan 'e CrSi-film beynfloedet har prestaasjes sterk.

Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe Chronium Silicon Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten. Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.