AlCu Sputtering Target High Purity Thin Film PVD Coating Custom Made

Aluminium Koper sputtering doel is perfekt foar in oantal yndustry en tapassingen, fanwege syn hege hurdens, tensile sterkte en licht gewicht. It hat normaal 1-3% koper ynhâld en hat de ferlykbere gemyske eigenskippen mei aluminium. AlCu hat hege meganyske eigenskippen, poerbêste bewurkberens en geskiktheid foar hege temperatueren, dus it kin it gaadlike materiaal wêze foar aluminiumlegering mei hege prestaasjes. Hege suverens AlCu alloy sputtering doel koe wurde brûkt yn in breed skala oan yndustriële fjilden fan semiconductor en elektroanyske funksjonele komponinten.

Rich Special Materials is spesjalisearre yn 'e fabrikaazje fan Sputtering Target en koe aluminium Chromium Sputtering Materialen produsearje neffens de spesifikaasjes fan klanten. Us produkten hawwe poerbêste meganyske eigenskippen, homogene struktuer, gepolijst oerflak sûnder segregaasje, poarjes of barsten. Foar mear ynformaasje, nim dan kontakt mei ús op.