Cible de pulvérisation AlTa en gros, revêtement PVD à couche mince de haute pureté, fabricant et fournisseur sur mesure

Aluminium-Tantale

Cible de pulvérisation AlTa, revêtement PVD à couche mince de grande pureté, sur mesure

Brève description :

Catégorie	Cible de pulvérisation en alliage
Formule chimique	AlTa
Composition	Aluminium-Tantale
Pureté	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Forme	Plaques, cibles de colonne, cathodes à arc, sur mesure
Processus de production	Fusion sous vide, PM
Taille disponible	L≤200 mm, W≤200 mm

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Détail du produit

Mots clés du produit

Les cibles sont préparées en mélangeant des poudres d'aluminium et de tantale ou en les faisant fondre sous vide, suivies d'un compactage jusqu'à atteindre leur pleine densité. Les matériaux ainsi compactés sont éventuellement frittés et sont ensuite façonnés selon la forme cible souhaitée.

La cible de pulvérisation d'aluminium et de tantale présente une grande pureté, une microstructure homogène et une excellente conductivité. Il est largement utilisé dans la formation de films minces pour l’industrie des écrans plats. De l'aluminium et du tantale pourraient également être ajoutés pour produire un alliage de titane haute performance afin d'améliorer son aptitude aux hautes températures.

Teneur en impuretés de l'alliage Al-Ta

composition	Contenu（%）
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55,0 ~ 65,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05
AlTa70	65,0 ~ 75,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05

Rich Special Materials se spécialise dans la fabrication de cibles de pulvérisation et pourrait produire des matériaux de pulvérisation d'aluminium et de tantale selon les spécifications des clients. Nos produits présentent d'excellentes propriétés mécaniques, une structure homogène, une surface polie sans ségrégation, pores ou fissures. Pour plus d'informations, veuillez nous contacter.

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