Elektroniikkateollisuuden kattavien suorituskyky- ja sovellusympäristövaatimusten parantuessa molybdeenin sputterointikohde osoittaa myös ainutlaatuisen suorituskyvyn. Molybdeenisputterointikohde voi muodostaa kalvoja kaikenlaisille perusmateriaaleille. Tätä sputterointikalvoa käytetään laajalti elektronisissa komponenteissa ja elektroniikkatuotteissa. Mikä on molybdeenin sputterointikohteen sovellus? Seuraava on kokoelma RSM:stä jaettavaksi
Molybdeenin sputterointikohteiden luokitus
1. Tasainen tavoite
2, Pyörivä kohde
Molybdeenin ruiskutuskohteen tuotantoprosessi:
Valitse kylmäisostaattinen puristus – sintraus välitaajuusuunilla – valssaus valssaamolla – koneistus – testaus – tuotteet.
Molybdeeniruiskutuskohdemateriaalin käyttö:
Molybdeenikohdemateriaalia käytetään laajalti sellaisilla aloilla kuin johtava lasi, STN/TN/TFT-LCD, optinen lasi, ionipinnoite jne. sopii kaikkiin tasopinnoitus- ja pyöriväpinnoitusjärjestelmiin.
Nämä perustuvat molybdeenin korkeaan sulamispisteeseen, korkeaan sähkönjohtavuuteen, alhaiseen ominaisimpedanssiin, parempaan korroosionkestävyyteen ja erinomaiseen ympäristönsuojeluun. Aiemmin litteän näytön pääjohdotusmateriaali oli kromi, mutta laajamittaisen ja erittäin tarkan litteän näytön ansiosta tarvitaan yhä enemmän materiaaleja, joilla on pieni ominaisimpedanssi.
Lisäksi on huomioitava ympäristönsuojelu. Molybdeeni on yksi suosituimmista materiaaleista litteiden näyttöjen sputteroinnissa, koska sen etuna on vain 1/2 impedanssista ja kalvon jännityksestä kromiin verrattuna ja se ei saastuta ympäristöä.
Postitusaika: 28.6.2022