Tulenkestävällä volframimetallilla ja volframiseoksilla on korkean lämpötilan stabiilius, korkea elektronien migraatiokestävyys ja korkea elektronipäästökerroin. Erittäin puhtaita volframi- ja volframiseoskohteita käytetään pääasiassa hilaelektrodien, liitäntäkaapeleiden ja integroitujen puolijohdepiirien diffuusiosulkukerrosten valmistukseen. Niillä on erittäin korkeat vaatimukset puhtaudelle, epäpuhtausalkuainepitoisuudelle, tiheydelle, raekoolle ja materiaalien yhtenäiselle raerakenteelle. Katsotaanpa tekijöitä, jotka vaikuttavat erittäin puhtaan volframikohteen valmistukseenby Rich Special Material Co., Ltd.
I. Sintrauslämpötilan vaikutus
Volframikohdealkion muodostusprosessi tapahtuu yleensä kylmällä isostaattisella paineella. Volframirae kasvaa sintrauksen aikana. Volframirakeiden kasvu täyttää kiteen rajojen välisen aukon, mikä lisää volframikohteen tiheyttä. Sintrausaikojen pidentyessä volframikohteen tiheyden kasvu hidastuu vähitellen. Pääsyynä on se, että volframikohdemateriaalin laatu ei ole juurikaan muuttunut useiden sintrausprosessien jälkeen. Koska suurin osa kiteen rajalla olevista tyhjistä tiloista täytetään volframikiteillä, volframikohteen kokonaiskoon muutosnopeus on hyvin pieni jokaisen sintrausprosessin jälkeen, mikä johtaa rajoitettuun tilaan volframikohteen tiheyden kasvulle. Sintrauksen edetessä suuret volframirakeet täytetään tyhjiin tiloihin, jolloin saadaan tiheämpi ja pienempikokoinen kohde.
2. Vaikutushsyö säilöntäaika
Samassa sintrauslämpötilassa volframikohdemateriaalin tiiviys paranee sintrausajan pidentyessä. Sintrausajan pidentyessä volframiraekoko kasvaa, ja sintrausajan pidentyessä raekoon kasvutekijä hidastuu vähitellen. Tämä osoittaa, että sintrausajan pidentäminen voi myös parantaa volframikohteen suorituskykyä.
3. Rullauksen vaikutus kohteeseen Psuorituskykyä
Volframikohdemateriaalien tiheyden parantamiseksi ja volframikohdemateriaalien prosessointirakenteen saamiseksi volframikohdemateriaalien keskilämpötilan valssaus on suoritettava uudelleenkiteytyslämpötilan alapuolella. Kun kohdeaihion valssauslämpötila on korkea, kohdeaihion kuiturakenne on paksumpi, kun taas maaliaihion kuiturakenne on hienompi. Kun kuumavalssauksen saanto on yli 95 %. Vaikka erilaisesta sintrausalkuperäisestä rakeesta tai valssauslämpötilasta johtuva kuiturakenteen ero eliminoituu, kohteen sisään muodostuu homogeenisempi kuiturakenne, joten mitä korkeampi lämpövalssauksen käsittelynopeus, sitä parempi kohteen suorituskyky.
Postitusaika: 5.5.2022