Nykyään mobile-puhelimista on tullut yleisölle välttämättömin asia, ja matkapuhelinnäytöt ovat yhä korkeatasoisempia. Kattava näytön suunnittelu ja pieni otsatukka ovat tärkeä askel matkapuhelimen LCD:n valmistuksessa. Tiedätkö, mikä se on – Pinnoite: käytä magnetronisputterointitekniikkaa metallimolybdeenin ruiskuttamiseksi molybdeenikohteesta nestekidenäyttöön.Täällä below,tämä artikkeli antaa sinulle erityisen johdannon.
Sputteroinnilla, kehittyneenä tekniikkana ohutkalvotietojen valmistukseen, on kaksi ominaisuutta: "suuri nopeus" ja "matala lämpötila". Se käyttää ionilähteen tuottamia ioneja nopeuttamaan nopean ionivirran aggregaatiota ja integraatiota tyhjiössä, pommittamaan kiinteää pintaa ja ionit vaihtavat kineettistä energiaa kiinteän pinnan atomien kanssa niin, että kiinteän aineen atomit pinta jättää kohteen ja kerrostuu substraatin pinnalle ja muodostaa sitten nano- (tai mikroni-) kalvon. Kuorittu kiinteä aine on sputteroimalla kerrostuneiden ohuiden kalvojen data, jota kutsutaan sputterointikohteeksi.
Elektroniikkateollisuudessa molybdeeniruiskutuskohteita käytetään pääasiassa litteänäytöissä, ohutkalvoisten aurinkokennojen elektrodeissa ja johdotusmateriaaleissa sekä puolijohteiden suojamateriaaleissa.
Nämä perustuvat molybdeenin korkeaan sulamispisteeseen, korkeaan johtavuuteen, alhaiseen ominaisimpedanssiin, hyvään korroosionkestävyyteen ja hyvään ympäristönsuojeluun.
Aiemmin litteän näytön kytkentätiedot olivat pääasiassa kromia, mutta laajamittaisen ja erittäin tarkan litteän näytön ansiosta impedanssia pienempiä tietoja tarvitaan yhä enemmän. Lisäksi ympäristönsuojelu on myös välttämätön näkökohta. Molybdeenin etuna on, että ominaisimpedanssi ja kalvojännitys ovat vain 1/2 kromin vastaavasta, eikä ympäristön saastuminen ole ongelma, joten siitä on tullut yksi litteän näytön sputterointikohteen materiaaleista.
Lisäksi molybdeenin käyttö LCD-komponenteissa voi parantaa huomattavasti LCD-näytön toimintoja kirkkauden, kontrastin, värin ja käyttöiän suhteen. TFT-LCD on yksi tärkeimmistä molybdeenin sputterointikohteista litteiden näyttöjen alalla.
Markkinatutkimukset osoittavat, että lähivuodet ovat LCD-kehityksen huippu, ja vuotuinen kasvuvauhti on noin 30 %. LCD:n kehityksen myötä myös LCD-sputterointitavoitteen kulutus kasvaa nopeasti, ja vuotuinen kasvuvauhti on noin 20 %.
Litteän näytön ammatin lisäksi uusien energia-ammattien kehittyessä molybdeenin sputterointikohteen käyttö lisääntyy myös aurinkokennoissa.
Molybdeenin sputterointikohde ruiskutetaan pääasiassa CIGS-ohutkalvoakun (kupari-indiumgallium-seleeni) elektrodikerroksen muodostamiseksi. Mo on aurinkokennon pohjalla. Aurinkokennon takakosketteena sillä on erittäin tärkeä rooli CIGS-ohutkalvokiteiden ydintämisessä, kasvussa ja kuvauksessa.
Postitusaika: 10.5.2022