Tukkumyynti AlTa Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvo PVD-pinnoite Mittatilaustyönä valmistettu valmistaja ja toimittaja

Alumiini-tantaali

AlTa Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvo-PVD-pinnoite Mittatilaustyönä tehty esittelykuva

Lyhyt kuvaus:

Luokka	Seoksen ruiskutuskohde
Kemiallinen kaava	AlTa
Koostumus	Alumiini-tantaali
Puhtaus	99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Muoto	Levyt, pylväskohteet, kaarikatodit, mittatilaustyöt
Tuotantoprosessi	Tyhjiösulatus, PM
Saatavana koko	P≤200mm, L≤200mm

Lähetä meille sähköpostia

Tuotetiedot

Tuotetunnisteet

Kohteet valmistetaan sekoittamalla alumiini- ja tantaalijauheita tai tyhjiösulattamalla, minkä jälkeen tiivistetään täyteen tiheyteen. Näin tiivistetyt materiaalit valinnaisesti sintrataan ja muotoillaan sitten haluttuun kohdemuotoon.

Alumiininen tantaaliruiskutuskohde on erittäin puhdasta, homogeeninen mikrorakenne ja erinomainen johtavuus. Sitä käytetään laajalti ohuiden kalvojen muodostamiseen litteän näytön teollisuudelle. Alumiinitantaalia voitaisiin myös lisätä korkean suorituskyvyn titaaniseoksen valmistamiseksi sen sopivuuden parantamiseksi korkeissa lämpötiloissa.

Al-Ta-seoksen epäpuhtauspitoisuus

koostumus	Sisältö（%)
	Ta	Fe	Si	C	O
AlTa60	55,0 - 65,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05
AlTa70	65,0 - 75,0	≤0,05	≤0,02	≤0,01	≤0,05

Rich Special Materials on erikoistunut ruiskutuskohteen valmistukseen ja voi tuottaa alumiinitantaaliruiskutusmateriaaleja asiakkaiden vaatimusten mukaisesti. Tuotteillamme on erinomaiset mekaaniset ominaisuudet, homogeeninen rakenne, kiillotettu pinta, jossa ei ole erottelua, huokosia tai halkeamia. Lisätietoja saat ottamalla meihin yhteyttä.

Edellinen: AlTi-lejeeringin sputterointitavoite korkea puhtaus

Seuraavaksi: AlCu Sputtering Target Erittäin puhdas ohutkalvoinen PVD-pinnoite mittatilaustyönä