پوشش Pvd فیلم نازک با خلوص بالا V Sputtering Target ساخت سفارشی
وانادیوم
شرح هدف کندوپاش وانادیوم
وانادیوم فلزی سخت و انعطاف پذیر با ظاهری خاکستری مایل به نقره ای است. سخت تر از اکثر فلزات است و مقاومت خوردگی خوبی در برابر قلیایی ها و اسیدها نشان می دهد. نقطه ذوب آن 1890 ℃ و نقطه جوش 3380 ℃ است. عدد اتمی آن 23 و وزن اتمی آن 50.9414 است. ساختار مکعبی رو به مرکز دارد و حالت های اکسیداسیون در ترکیبات 5+، 4+، 3+ و 2+ دارد. دارای نقطه ذوب بالا، شکل پذیری، سختی و مقاومت در برابر خوردگی است.
وانادیوم به طور گسترده در تعدادی از صنایع و کاربردها مانند موتورهای جت، فریم های هوا با سرعت بالا، راکتورهای هسته ای و آلیاژسازی فولاد استفاده می شود.
هدف کندوپاش وانادیوم با خلوص بالا یک ماده حیاتی برای سلول های خورشیدی و پوشش های لنز نوری است.
تجزیه و تحلیل شیمیایی
| خلوص | 99.7 | 99.9 | 99.95 | 99.99 |
| Fe | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.02 | ≤0.01 |
| Al | ≤0.2 | ≤0.05 | ≤0.03 | ≤0.01 |
| Si | ≤0.15 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
| C | ≤0.03 | ≤0.02 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| N | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 | ≤0.01 |
| O | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.05 | ≤0.03 |
| نجاست در کل | ≤0.3 | ≤0.1 | ≤0.05 | ≤0.01 |
بسته بندی هدف وانادیوم کندوپاش
هدف ما برای کندوپاش وانادیوم به وضوح برچسب گذاری و برچسب خارجی دارد تا از شناسایی کارآمد و کنترل کیفیت اطمینان حاصل شود. برای جلوگیری از هر گونه آسیبی که ممکن است در حین نگهداری یا حمل و نقل ایجاد شود، مراقبت زیادی انجام می شود.
تماس بگیرید
اهداف کندوپاش وانادیوم RSM خلوص و قوام فوق العاده ای را ارائه می دهند. آنها در اشکال مختلف، خلوص، اندازه و قیمت موجود هستند. ما در مواد پوششی لایه نازک با خلوص بالا با خواص عالی، و همچنین بالاترین چگالی ممکن و کوچکترین اندازه دانه متوسط، برای پوشش قالب، دکوراسیون، قطعات خودرو، شیشه E پایین، مدارهای مجتمع نیمه هادی، مقاومت های لایه نازک، نمایشگرهای گرافیکی تخصص داریم. ، هوافضا، ضبط مغناطیسی، صفحه نمایش لمسی، سلول های خورشیدی فیلم نازک و دیگر برنامه های کاربردی رسوب بخار فیزیکی (PVD). لطفاً برای قیمت گذاری فعلی اهداف کندوپاش و سایر مواد رسوبی که در لیست نیستند، درخواستی برای ما ارسال کنید.
