به وب سایت های ما خوش آمدید!
اخبار
-
تفاوت بین پوشش تبخیری و پوشش کندوپاش
همانطور که همه ما می دانیم، تبخیر خلاء و کندوپاش یون معمولاً در پوشش خلاء استفاده می شود. تفاوت بین پوشش تبخیری و پوشش کندوپاش چیست؟ در ادامه کارشناسان فنی RSM با ما در میان خواهند گذاشت. پوشش تبخیر خلاء برای گرم کردن موادی است که باید تبخیر شوند ...ادامه مطلب -
الزامات مشخصه هدف کندوپاش مولیبدن
اخیراً بسیاری از دوستان در مورد ویژگی های اهداف کندوپاش مولیبدن سؤال کردند. در صنعت الکترونیک، به منظور بهبود راندمان کندوپاش و اطمینان از کیفیت فیلم‌های رسوب‌شده، ویژگی‌های اهداف کندوپاش مولیبدن چیست؟ حالا...ادامه مطلب -
زمینه کاربرد مواد هدف کندوپاش مولیبدن
مولیبدن یک عنصر فلزی است که عمدتاً در صنعت آهن و فولاد استفاده می شود که بیشتر آن مستقیماً در فولادسازی یا چدن پس از فشرده سازی اکسید مولیبدن صنعتی استفاده می شود و قسمت کوچکی از آن به فرومولیبدن ذوب می شود و سپس در فولاد استفاده می شود. ساختن می تواند آلو را تقویت کند ...ادامه مطلب -
دانش تعمیر و نگهداری از هدف کندوپاش
بسیاری از دوستان در مورد تعمیر و نگهداری هدف سوالات کم و بیش وجود دارد، اخیراً مشتریان زیادی نیز در مورد تعمیر و نگهداری مشکلات مربوط به هدف مشاوره می کنند، اجازه دهید ویرایشگر RSM برای ما در مورد دانش تعمیر و نگهداری هدف sputtering به اشتراک بگذارد. چگونه باید کندوپاش ...ادامه مطلب -
اصل پوشش خلاء
پوشش خلاء به گرم کردن و تبخیر منبع تبخیر در خلاء یا کندوپاش با بمباران یونی تسریع شده و رسوب آن بر روی سطح بستر برای تشکیل یک لایه تک لایه یا چند لایه اشاره دارد. اصل پوشش خلاء چیست؟ در مرحله بعد، ویرایشگر RSM...ادامه مطلب -
هدف پوشش داده شده چیست
پوشش کندوپاش مگنترون خلاء در حال حاضر به یکی از مهم ترین فناوری ها در تولید پوشش های صنعتی تبدیل شده است. با این حال، هنوز دوستان زیادی هستند که در مورد محتوای مرتبط هدف پوشش سوال دارند. حال بیایید از کارشناسان RSM sputtering target دعوت کنیم تا ...ادامه مطلب -
روش پردازش مواد هدف آلومینیوم با خلوص بالا
اخیراً سؤالات زیادی از مشتریان در مورد روش های پردازش اهداف آلومینیومی با خلوص بالا مطرح شده است. کارشناسان هدف RSM خاطرنشان می کنند که هدف آلومینیوم با خلوص بالا را می توان به دو دسته تقسیم کرد: آلیاژ آلومینیوم تغییر شکل یافته و آلیاژ آلومینیوم ریخته گری بر اساس پردازش. .ادامه مطلب -
استفاده از اهداف تیتانیوم با خلوص بالا
همانطور که همه می دانیم، خلوص یکی از شاخص های اصلی عملکرد هدف است. در استفاده واقعی، الزامات خلوص هدف نیز متفاوت است. در مقایسه با تیتانیوم خالص صنعتی عمومی، تیتانیوم با خلوص بالا گران است و دامنه باریکی از کاربردها دارد. عمدتا استفاده می شود ...ادامه مطلب -
نکات پوشش خلاء کندوپاش PVD مگنترون
نام کامل PVD رسوب بخار فیزیکی است که مخفف انگلیسی (فیزیکی بخار رسوب) است. در حال حاضر، PVD عمدتا شامل پوشش تبخیر، پوشش کندوپاش مگنترون، پوشش یون چند قوس، رسوب بخار شیمیایی و اشکال دیگر است. به طور کلی، PVD bel ...ادامه مطلب -
زمینه های اصلی کاربرد هدف مس با خلوص بالا
اهداف مس با خلوص بالا عمدتا در چه زمینه هایی استفاده می شود؟ در مورد این موضوع، به ویرایشگر RSM اجازه دهید تا زمینه کاربرد هدف مس با خلوص بالا را از طریق نکات زیر معرفی کند. اهداف مس با خلوص بالا عمدتاً در صنایع الکترونیک و اطلاعات مانند انتگرال ...ادامه مطلب -
هدف تنگستن
هدف تنگستن هدف تنگستن خالص است که از مواد تنگستن با خلوص بیش از 99.95٪ ساخته شده است. درخشندگی فلزی سفید نقره ای دارد. از پودر تنگستن خالص به عنوان ماده خام ساخته شده است که به عنوان هدف کندوپاش تنگستن نیز شناخته می شود. دارای مزایای نقطه ذوب بالا، الاستیک خوب ...ادامه مطلب -
توضیح مفصل در مورد دانش فنی اصلی هدف مس
با افزایش تقاضای بازار برای اهداف، انواع بیشتری از اهداف، مانند اهداف آلیاژی، اهداف کندوپاش، اهداف سرامیکی و غیره وجود دارد. دانش فنی در مورد اهداف مسی چیست؟ اکنون بیایید دانش فنی اهداف مسی را با ما به اشتراک بگذاریم، 1. De...ادامه مطلب