تفاوت بین پوشش تبخیری و پوشش کندوپاش

همانطور که همه ما می دانیم، روش های رایج در پوشش خلاء، تعرق خلاء و کندوپاش یونی است. تفاوت بین پوشش تعرق و پوشش کندوپاش بسیاری چیستمردم چنین سوالاتی دارند بیایید تفاوت بین پوشش تعرق و پوشش کندوپاش را با شما به اشتراک بگذاریم

فیلم تعرق خلاء عبارت است از حرارت دادن داده‌های مورد تعرق به دمای ثابت با استفاده از گرمایش مقاومتی یا پرتو الکترونی و پوسته لیزر در محیطی با درجه خلاء کمتر از 10-2Pa، به طوری که انرژی ارتعاش حرارتی مولکول‌ها یا اتم‌های موجود در داده‌ها از انرژی اتصال سطح فراتر می‌روند، به طوری که بسیاری از مولکول‌ها یا اتم‌ها تعرق یا افزایش می‌یابند و مستقیماً آنها را روی بستر می‌گذارند تا یک فیلم پوشش پراکنده یونی از حرکت تداخل بالا یون های مثبت تولید شده توسط تخلیه گاز تحت اثر میدان الکتریکی برای بمباران هدف به عنوان کاتد استفاده می کند، به طوری که اتم ها یا مولکول های موجود در هدف فرار کرده و روی سطح قطعه کار آبکاری شده رسوب می کنند تا تشکیل شود. فیلم مورد نیاز

متداول ترین روش پوشش تعرق خلاء، روش گرمایش مقاومتی است. مزایای آن ساختار ساده منبع گرمایش، هزینه کم و عملکرد راحت است. معایب آن این است که برای فلزات نسوز و محیط های مقاوم در برابر دمای بالا مناسب نیست. گرمایش پرتوی الکترونی و گرمایش لیزری می تواند بر معایب گرمایش مقاومتی غلبه کند. در گرمایش پرتو الکترونی، از پرتو الکترونی متمرکز برای گرم کردن مستقیم داده های پوسته شده استفاده می شود و انرژی جنبشی پرتو الکترونی به انرژی گرمایی تبدیل می شود تا تعرق داده ها را ایجاد کند. گرمایش لیزری از لیزر پرقدرت به عنوان منبع گرمایش استفاده می کند، اما به دلیل هزینه بالای لیزر پرقدرت، تنها در تعداد کمی از آزمایشگاه های تحقیقاتی قابل استفاده است.

مهارت کندوپاش با مهارت تعرق خلاء متفاوت است. کندوپاش به پدیده ای اشاره دارد که ذرات باردار به سطح (هدف) بدن برمی گردند، به طوری که اتم ها یا مولکول های جامد از سطح ساطع می شوند. بیشتر ذرات ساطع شده اتمی هستند که اغلب به آن اتم های پراکنده می گویند. ذرات پراکنده مورد استفاده برای شلیک اهداف می توانند الکترون، یون یا ذرات خنثی باشند. از آنجایی که یون ها می توانند انرژی جنبشی مورد نیاز را تحت میدان الکتریکی به دست آورند، یون ها عمدتاً به عنوان ذرات پوسته ای انتخاب می شوند.

فرآیند کندوپاش بر اساس تخلیه تابشی است، یعنی یون های کندوپاش از تخلیه گاز حاصل می شوند. مهارت های مختلف کندوپاش روش های تخلیه درخشندگی متفاوتی دارند. کندوپاش دیود DC از تخلیه درخشش DC استفاده می کند. کندوپاش تریود یک تخلیه درخشان است که توسط کاتد داغ پشتیبانی می شود. کندوپاش RF از تخلیه درخشش RF استفاده می کند. کندوپاش مگنترون یک تخلیه درخشان است که توسط یک میدان مغناطیسی حلقوی کنترل می شود.

در مقایسه با پوشش تعرق خلاء، پوشش کندوپاش مزایای بسیاری دارد. اگر هر ماده ای را می توان پاشید، به ویژه عناصر و ترکیبات با نقطه ذوب بالا و فشار بخار کم. چسبندگی بین فیلم پراکنده شده و بستر خوب است. چگالی فیلم بالا؛ ضخامت فیلم را می توان کنترل کرد و تکرارپذیری خوب است. نقطه ضعف این است که تجهیزات پیچیده است و به دستگاه های ولتاژ بالا نیاز دارد.

علاوه بر این، ترکیب روش تعرق و روش کندوپاش آبکاری یونی است. از مزایای این روش می توان به چسبندگی قوی بین فیلم و بستر، سرعت رسوب بالا و چگالی بالای فیلم اشاره کرد.