Handizkako TaNb Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea

Tantalioa Niobioa

TaNb Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	TaNb
Konposizioa	Niobio tantalioa
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤2000mm, W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Tantalum Niobio Sputtering Helburuaren deskribapena

Tantalioa Niobium sputtering helburua tantalioa eta niobioa hutsean urtzearen bidez fabrikatzen da. Bi hauek urtze-puntu altua (tantaloa 2996 ℃, niobioa 2468 ℃), irakite-puntu altua (tantaloa 5427 ℃, niobioa 5127 ℃) metal arraroak dira. Tantalo Niobio aleazioak altzairuaren antzeko itxura du, zilar-grisa distira du (hautsa gris iluna den bitartean). Propietate onuragarri asko ditu: korrosioarekiko erresistentzia, supereroankortasuna eta tenperatura altuko erresistentzia. Beraz, edozein aplikazio edo industriak Tantalum Niobio aleazioak erabiltzean onuragarriak izan daitezke, hala nola elektronika, beira eta optika, aeroespaziala, gailu medikoa, supereroankortasuna eta altzairua.

Tantalioa eta niobioa funtsezkoak izan dira urte luzez espazio-industrian, beren indar ikusgarriagatik, korrosioarekiko erresistentziagatik eta beste ezaugarri erakargarri batzuengatik, eta osagai garrantzitsu askotan erabili izan dira, esaterako, suziri motorrak eta toberak.

Tantalioa Niobioa Sputtering Helburuko ontziratzea

Gure TaNb sputter helburua argi eta garbi etiketatu eta etiketatuta dago identifikazio eraginkorra eta kalitate-kontrola bermatzeko. Kontuz ibili behar da biltegiratzean edo garraioan sor daitezkeen kalteak saihesteko.

Lortu kontaktua

RSM-ren Tantalum Niobium sputtering helburuak purutasun oso handikoak eta uniformeak dira. Hainbat forma, garbitasun, tamaina eta preziotan daude eskuragarri. Garbitasun handiko film mehe estaldura-materialak ekoizten espezializatuta gaude, errendimendu bikainarekin, baita ahalik eta dentsitate handienarekin eta ahalik eta batez besteko ale-tamaina txikiena ere, moldeen estalduran, dekorazioan, automobiletako piezak, E baxuko beira, zirkuitu integratua erdieroaleak, film mehean erabiltzeko. erresistentzia, pantaila grafikoa, aeroespaziala, grabazio magnetikoa, ukipen-pantaila, film meheko eguzki-bateria eta beste lurrun fisiko batzuk deposizio (PVD) aplikazioak. Mesedez, bidal iezaguzu kontsulta bat sputtering helburuei eta zerrendatuta ez dauden jalkitze-materialei buruzko uneko prezioei buruz.

Aurrekoa: NbTi Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua

Hurrengoa: WRe Sputtering Helburua Garbitasun handiko film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua