Handizkako NiCrAlY Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea

Nickel Kromo Aluminio Itrioa

NiCrAlY Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	NiCrAlY
Konposizioa	Nickel Kromo Aluminio Itrioa
Garbitasuna	%99,5，%99,7，%99,9，%99,95
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤200mm, W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Bideoa

Nickel Kromo Aluminio Itrio Sputtering Helburuaren deskribapena

NiCrAlY Sputtering helburua Nickel Kromo Aluminio Itrioaren lehengaien hutsean urtzeaz sortzen da. Koherentzia handia eta ale finaren tamaina du eta pororik gabe. Kromoaren konposizioa % 10-30 (piz) bitartekoa da, aluminioa % 10-20 (pisua), itrioa % 0,5-1,0 (pisua), eta γ+β egitura bi-geruza bihurtzen da.
NiCrAlY geruza hesi termikoko estaldura gisa erabiltzen da. Tenperatura altuko korrosioa gas, gatz solido edo urtuetatik edo metal urtuetatik kromia eratzen duten burdina, nikel eta kobalto-oinarrizko aleazioen eraso kimiko bati dagokio, normalean 400 °C-tik gorako tenperaturan (750 °F). Hegazkinen eta gas-turbinaren Tenperatura Handiko Urratseko Aleazioan erabiltzen den NiCrAlY geruzaren aplikazioak korrosioari aurre egiteko errendimendua hobetu eta produktuaren bizitza luzatu dezake.

Nickel Kromo Aluminio Ittrioa Sputtering Helburuen paketea

Gurea Nickel Kromo Aluminio Itrioasputter helburuaargi eta garbi etiketatu eta etiketatuta dago identifikazio eraginkorra eta kalitate-kontrola bermatzeko. Kontuz ibili behar da biltegiratzean edo garraioan sor daitezkeen kalteak saihesteko.

Lortu kontaktua

RSM-ren Nickel Kromo Aluminio Ittrioa sputtering helburuak oso garbitasun handikoak eta uniformeak dira. Hainbat forma, garbitasun, tamaina eta preziotan daude eskuragarri. Garbitasun handiko film mehe estaldura-materialak ekoizten espezializatuta gaude, errendimendu bikainarekin, baita ahalik eta dentsitate handienarekin eta ahalik eta batez besteko ale-tamaina txikiena ere, moldeen estalduran, dekorazioan, automobiletako piezak, E baxuko beira, zirkuitu integratua erdieroaleak, film mehean erabiltzeko. erresistentzia, pantaila grafikoa, aeroespaziala, grabazio magnetikoa, ukipen-pantaila, film meheko eguzki-bateria eta beste lurrun fisiko batzuk deposizio (PVD) aplikazioak. Mesedez, bidal iezaguzu kontsulta bat sputtering helburuei eta zerrendatuta ez dauden jalkitze-materialei buruzko uneko prezioei buruz.