Beira-fabrikatzaile askok produktu berriak garatu nahi dituzte eta gure departamentu teknikoari aholkua eskatu nahi diote beira estaldurari buruz. Hona hemen RSMko sail teknikoak laburbildutako ezagutza garrantzitsuak:
Beira-estaldura sputtering xedearen aplikazioa beira-industrian batez ere erradiazio baxuko estalitako beira egitea da. Gainera, magnetron sputtering printzipioa erabiltzea beiraren gainean geruza anitzeko filma sputtertzeko, energia aurrezteko, argiaren kontrola eta dekorazioa lortzeko.
Erradiazio baxuko estalitako beira energia aurrezteko beira bezala ere ezagutzen da. Azken urteotan, energia-kontserbazioa eta isurketen murrizketa areagotu eta bizi-kalitatea hobetuz, eraikuntzako beira tradizionala energia aurrezteko beirarekin ordezkatzen da pixkanaka. Merkatuaren eskari honek bultzatuta beira prozesatzeko sakoneko ia enpresa handi guztiek estalitako beira ekoizteko lerroa azkar handitzen dute.
Horrenbestez, beira estaldurarako xede-materialen eskaera azkar hazten ari da. Beira estaldurarako sputtering helburuko materialen artean, batez ere, kromo sputtering helburua, titanio sputtering helburua, nikela kromo sputtering helburua, silizio aluminiozko sputtering helburua eta abar. Xehetasun gehiago hauek dira:
Chromium Sputtering Helburua
Chromium sputtering helburuak oso erabiliak dira hardware-tresnen estalduran, dekorazio-estalduran eta pantaila lauko estalduran. Hardware-estaldura hainbat aplikazio mekaniko eta metalurgikotan erabiltzen da, hala nola robot-erremintetan, torneatzeko tresnak, moldeak (galdaketa, estanpazioa). Filmaren lodiera, oro har, 2 ~ 10um-koa da, eta gogortasun handia, higadura baxua, talkaren erresistentzia eta shock termikoarekin eta atxikimendu handiko propietatearekin erresistentzia behar du. Orain, kromo bidezko sputtering helburuak beira estalduraren industrian aplikatzen dira. Aplikazio garrantzitsuena automozioko atzerako ispiluak prestatzea da. Automobilaren atzerako ispiluen eskakizun gero eta handiagoarekin, enpresa askok jatorrizko aluminiozko prozesutik hutsean sputtering kromo prozesura pasatu dira.
Titaniozko Sputtering Helburua
Titaniozko sputtering helburuak hardware-tresnen estalduran, dekorazio-estalduran, osagai erdieroaleetan eta pantaila lauko estalduran erabiltzen dira. Zirkuitu integratuak prestatzeko oinarrizko materialetako bat da, eta behar den purutasuna %99,99tik gorakoa izan ohi da.
Nickel Kromoa Sputtering Helburua
Nikel-kromo-sputtering helburua oso erabilia da belaki-nikela eta dekorazio-estaldura-eremuen ekoizpenean. Zeramikazko gainazaletan estaldura apaingarri bat osa dezake edo soldadura-geruza zirkuituko gailuen fabrikazioa hutsean lurruntzen denean.
Siliziozko aluminiozko sputtering helburua
Siliziozko aluminiozko sputtering helburua erdieroaleetan, lurrun-deposizio kimikoan (CVD), lurrun-deposizio fisikoan (PVD) pantailan aplika daiteke.
Beiraren xede-materialaren beste aplikazio garrantzitsu bat automobilaren atzeko ispilu bat prestatzea da, batez ere kromo-helburua, aluminio-helburua, titanio oxidoa helburua barne. Automobilaren atzerako ispiluaren kalitate eskakizunen etengabeko hobekuntzarekin, enpresa askok jatorrizko aluminiozko plakatze prozesutik hutsean sputtering kromatze prozesura aldatu dira.
Rich Special Materials Co., Ltd.(RSM) sputtering helburuen fabrikatzaile gisa, beirarako sputtering helburuak ez ezik, beste eremu batzuetarako sputtering helburuak ere eskaintzen ditugu. Esaterako, metal purua sputtering helburua, aleazio sputtering helburua, zeramikazko oxido sputtering helburua eta abar.
Argitalpenaren ordua: 2022-10-25