CrW Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina

Helburuak Kronio eta Tungsteno hautsak nahastuz edo hutsean urtuz prestatzen dira, eta dentsitate osora trinkotuz. Horrela trinkotutako materialak aukeran sinterizatu egiten dira eta gero nahi den xede-forman eratzen dira.

Chrome Tungsten sputtering helburuak purutasun handia, mikroegitura homogeneoa, dentsitate handia eta ale-tamaina fina ditu. HIP-ek tamaina handian fabrikatu lezake. Cr-W estaldura ezin hobea da hainbat industria eta aplikaziotarako, korrosioarekiko erresistentziagatik, gogortasunagatik, indar dielektrikoagatik eta txikitze-korronte minimoengatik.

Rich Special Materials Sputtering Helburuaren fabrikatzailea da Chronium Tungsten Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera. Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.