CrSi Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina

Chronium Silicon Sputtering Helburuen fabrikazioak urrats hauek ditu:
1.Silizioaren eta Kronioaren urtze hutsean aleazio urratsak lortzeko.
2.Hautsa artezketa, ontziratu eta ebakuazioa.
3.Prentsazio isostatiko beroko tratamendua produktu erdi-landuak lortzeko.
4.Kromo-siliziozko aleazioko sputtering xede-material zakarra mekanizatzea kromo-siliziozko aleazio-sputtering xede-materiala lortzeko.

CrSi erresistentzia handiko film material gisa erabiltzen da askotan, erresistentzia handia, egonkortasuna eta tenperatura baxuko erresistentzia koefizientea ditu. Kronioak eta silizioak silizio fase asko sor ditzakete, hala nola Cr3Si, Cr5Si3, CrSi, CrSi2. CrSi filmaren ekoizpen-prozesuak, konposizioak eta tratamendu termikoaren prozesuak asko eragiten du bere errendimenduan.

Rich Special Materials Sputtering Helburuen fabrikazioan espezializatuta dago eta Chronium Silicon Sputtering Materialak ekoitzi ditzake Bezeroen zehaztapenen arabera. Informazio gehiagorako, jar zaitez gurekin harremanetan.