Handizkako CrNi Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea

Kromo-nikela

CrNi aleazio-sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egindako Irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	CrNi
Konposizioa	Kromo-nikela
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤4000mm, W≤350mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Oxidazioaren eta korrosioaren aurkako erresistentziaren errendimendu onarekin, CrNi aleazio-sputtering helburua Aplikazio industrial askotan erabiltzen da, hala nola Low-E beira, mikroelektronika, grabazio magnetikoa, erdieroalea eta film meheko erresistentzia.

Chronium Nickel Sputtering Target beira estalduraren industrian oso erabilia da, automobilen beira estaldura barne, isla murrizteko, argiaren transmisioa handitzeko eta irudi mamuen arazoa konpontzeko. Gainera, PVD estaldurak zahartze-tasa moteldu eta produktuen bizitza erabilgarria luzatu dezake.

Low-E edo emisio baxuko beira zure beiratik sartzen den argi infragorri eta ultramore kopurua minimizatzeko sortu zen, zure etxean sartzen den argi kantitatea gutxitu gabe. Low-E beira-leihoek gardenak eta beroa islatzen duten estaldura meheak dituzte, tenperatura koherentea mantenduz barruko tenperaturak berriro barnean islatuz. Chronium Nickel sarritan kanpoaldean metatzen da, antioxidazioaren eta korrosioaren aurkako geruza gisa funtzionatzeko.

Chronium Nickel aleazioak ekoitzitako film meheko erresistentziak abantaila ugari ditu: erresistentzia handia, Tenperatura-koefiziente baxua eta sentikortasun handia, eta asko erabiltzen da industria desberdinetan, besteak beste, Erresistentzia Tensiometroa.

Purria	Coposizioa(wt%)	Igarbitasuna(ppm)≤							Tezpurutasun metalikoa (ppm)
	Cr	Fe	Al	Si	C	N	O	S
99.5	20±1.0	2500	1000	1500	150	100	200	100	≤5000
99.7	20±1.0	1500	800	1000	150	100	200	100	≤3000
99.8	20±1.0	1200	300	600	150	100	200	100	≤2000
99.9	20±1.0	600	200	500	100	100	200	50	≤1000
99.95	20±1.0	200	100	200	100	100	200	50	≤500

Rich Special Materials-ek ikerketa sakona egin du Chronium Nickel Alloy-rako,Chronium konposizioa %5-80tik horni genezake. Konposizio tipikoa: Ni-5Cr wt%, Ni-7Cr wt%, Ni-20Cr at%，Ni-20Cr wt%, Ni-30Cr wt%，Ni-40Cr at%, Ni-40Cr wt%，Ni-44Cr wt% , Ni-50Cr wt%, Ni-60Cr wt%, eta desberdinak horni genitzake garbitasunak %99,5,%99,7,%99,8,%99,9,%99,95. Gure produktuak Ipar Amerikan, Europan, Japonian, Korean, Hego Asian eta Taiwanen saltzen dira eta industria ezberdinetan aplikatzen dira: Eremu Handiko Beira, Automatikoa, Erresistentzia, Grabaketa Magnetikoa eta Zirkuitu Integratua PVD Estaldura.

Aurrekoa: CrAlW Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina

Hurrengoa: CrTi Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina