Handizkako CoCrAlY Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea PVD estaldura Neurrira egindako fabrikatzailea eta hornitzailea

Kobalto Kromoa Aluminioa Itrioa

CoCrAlY aleazio-sputtering helburua Garbitasun handiko film mehea PVD estaldura Neurrira egindako Irudi aipagarria

Deskribapen laburra:

Kategoria	Aleazio Sputtering Helburua
Formula kimikoa	KoCrAlY
Konposizioa	Kobalto Kromoa Aluminioa Itrioa
Garbitasuna	%99,9,%99,95,%99,99
Forma	Plakak, zutabe-helburuak, arku katodoak, neurrira egindakoak
Ekoizpen Prozesua	Hutsean urtzea
Tamaina eskuragarri	L≤200mm，W≤200mm

Bidali mezu elektronikoa

Produktuaren xehetasuna

Produktuen etiketak

Kobalto Kromo Aluminio Itrio Sputtering Helburuaren deskribapena

Kobalto kromozko aluminiozko itrio-sputtering helburua kobalto-oinarritutako aleazio bat da, kromo aluminiozko eta itriozko elementuak gehituta. Korrosioaren aurkako portaera handia erakusten du gatz fusionatuan (sodio sulfatoa, sodio nitratoa, sodio karbonatoa, kaltzio sulfatoa, kaltzio sulfatoa, sodio kloruroa potasio kloruroa, sodio kloruroa sodio sulfatoa) tenperatura altuetan. Kromo Aluminio Itrioa ratio desberdinak izan ditzake, geruzen ingurune operatiboaren arabera. Normalean, aleazioak egitura bifasikoa erakutsiko luke kromoaren edukia % 20-40 (pisua, aluminioa % 5-20 (pisua) eta itrioa % 0,5 (pisua) den bitartean.

Kobalto kromoa aluminioa ytrio helburuak aeroespazialean, hegazkinen eta gas-turbinetan erabiltzen diren tenperatura altuko osagaien gainazalean metatu litezke. Geruza mota honek zerbitzu-bizitza hamar mila orduz luza dezake.

Kobalto Kromoa Aluminioa Itrioa Sputtering Helburu-ontziak

Gure CoCrAlY sputter helburua argi eta garbi etiketatu eta etiketatuta dago identifikazio eraginkorra eta kalitate-kontrola bermatzeko. Kontuz ibili behar da biltegiratzean edo garraioan sor daitezkeen kalteak saihesteko.

Lortu kontaktua

RSM-ren Kobalto Kromo Aluminio Ittrio sputtering helburuak purutasun oso handikoak eta uniformeak dira. Hainbat forma, garbitasun, tamaina eta preziotan daude eskuragarri. Garbitasun handiko film mehe estaldura-materialak ekoizten espezializatuta gaude, errendimendu bikainarekin, baita ahalik eta dentsitate handienarekin eta ahalik eta batez besteko ale-tamaina txikiena ere, moldeen estalduran, dekorazioan, automobiletako piezak, E baxuko beira, zirkuitu integratua erdieroaleak, film mehean erabiltzeko. erresistentzia, pantaila grafikoa, aeroespaziala, grabazio magnetikoa, ukipen-pantaila, film meheko eguzki-bateria eta beste lurrun fisiko batzuk deposizio (PVD) aplikazioak. Mesedez, bidal iezaguzu kontsulta bat sputtering helburuei eta zerrendatuta ez dauden jalkitze-materialei buruzko uneko prezioei buruz.

Aurrekoa: CrW Alloy Sputtering Helburua Garbitasun handiko Film mehea Pvd estaldura Neurrira egina

Hurrengoa: CoFeTaZr aleazio-sputtering helburua Garbitasun handiko film mehea Pvd estaldura pertsonalizatua