Seoses turunõudluse suurenemisega uuendatakse pidevalt rohkem ja rohkem erinevaid pihustussihtmärke. Mõned on klientidele tuttavad ja mõned võõrad. Nüüd tahaksime teiega jagada, millised on magnetroni pihustussihtmärkide tüübid.
Pommitamissihtmärke on järgmist tüüpi: metallist pihustuskatte sihtmärk, sulami pihustuskatte sihtmärk, keraamiline pihustuskatte sihtmärk, boriidkeraamiline pihustussihtmärk, karbiidkeraamiline pihustussihtmärk, keraamiline fluoriidi pihustussihtmärk, nitriidkeraamiline pihustussihtmärk, keraamiline oksüdeeritud pihustussihtmärk, , silitsiidkeraamiline pihustussihtmärk, sulfiidkeraamiline pihustussihtmärk, telluriidkeraamiline pihustussihtmärk, muud keraamilised sihtmärgid, kroomiga legeeritud ränioksiidi keraamiline sihtmärk (CR SiO), indiumfosfiidsihtmärk (INP), pliiarseniidsihtmärk (pbas), indiumarseniidsihtmärk (InAs) .
Magnetroni pihustamine jaguneb üldiselt kahte tüüpi: DC-pihustamine ja RF-pihustamine. Alalisvoolu pihustusseadmete põhimõte on lihtne ja selle kiirus on kiire ka metalli pihustamisel. RF-pihustamist kasutatakse laialdaselt. Lisaks juhtivate andmete pritsimisele võib see pihustada ka mittejuhtivaid andmeid. Samal ajal teostab pihustamise sihtmärk ka reaktiivset pihustust, et valmistada ette ühendite andmed, nagu oksiidid, nitriidid ja karbiidid. Kui RF sagedus suureneb, muutub see mikrolaineplasma pihustamiseks. Praegu kasutatakse tavaliselt elektrontsüklotronresonantsi (ECR) mikrolaineplasma pihustust.
Postitusaeg: 18. mai-2022